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光致发光谱测量掺硅AlGaAs中的DX能级

DX LEVEL IN Si DOPED AlGaAs MEASURED BY PHOTOLUMINESCENCE SPECTRUM
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摘要 在调制掺杂GaAs/AlGaAs多量子阱结构的光致发光谱中,靠近强发光峰的低能端存在几个弱峰,且发光强度随温度的增加而变化.这些弱峰是由于掺硅AlGaAs中DX中心上的电子向起受主作用的SiAs原子跃迁复合而引起.由此确定DX中心有四个能级,其激活能分别为0.35eV,0.37eV,0.39eV和0.41eV. In photoluminescence spectra for a modulated doped AlGaAs/GaAs multiquantum well strcuture,there are several low energy peaks near a strong luminescence peak,and their intensity changes with temperature.These low energy peaks arise from transition of electron on DX centeres in AlGaAs to Si As atoms.On this view,we come to the conclusion that the DX centeres in Si doped AlGaAs appear as four level and their activation energy is about 0.35 eV,0.37 eV,0.39 eV and 0.41 eV,respectively.
出处 《山东大学学报(自然科学版)》 CSCD 1998年第3期357-360,共4页 Journal of Shandong University(Natural Science Edition)
关键词 掺硅 DX能级 光致发光谱 半导体 镓铝砷化合物 photoluminescence Si doped AlGaAs DX level
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参考文献1

  • 1Su Z,Appl Phys Lett,1991年,59卷,14期,1746页 被引量:1

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