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用全息相衬干涉显微术定量研究晶-液界面的溶质边界层 被引量:1

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摘要 一、引言 溶液生长晶体,在晶-液界面附近,有关质量输运的真实行为,至今还是一个有待研究的课题。近几年有不少文献报道,采用全息干涉术研究晶体周围的浓度场分布或测量浓度边界层的厚度。然而这些研究均是在自然对流的状态下,进行总体分析。而对输运的重要地带——边界层内的溶质分布,或在强迫对流状态下,层内的变化规律未见报道。另外对检测方法的准确度也未见讨论。
出处 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第8期587-590,共4页 Chinese Science Bulletin
基金 国家自然科学基金
  • 相关文献

参考文献2

  • 1于锡玲,高等学校化学学报,1988年,9卷,1252页 被引量:1
  • 2董金--,人工晶体学报,1988年,17卷,123页 被引量:1

同被引文献3

  • 1周绍民.金属电沉积[M].上海:上海科学出版社,1982.. 被引量:2
  • 2Yu Xiling,Opt Laser Eng,1996年,25卷,191页 被引量:1
  • 3周绍民,金属电沉积.原理与研究方法,1982年 被引量:1

引证文献1

二级引证文献2

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