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当前我国微电子工业对超净高纯试剂的质量要求
被引量:
10
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摘要
以双氧水为例列举了国内电路生产厂家对杂质和颗粒的要求,同时指出当前我国电路生产处于超大规模集成电路阶段,而超净高纯试剂的生产则只能满足大规模集成电路的需要,VLSI级试剂主要依赖进口,急需实现国产化。
作者
葛继三
何禄宽
董素娟
机构地区
天津市化学试剂三厂
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1998年第4期8-9,共2页
Semiconductor Technology
关键词
高纯试剂
芯片
VLSI
集成电路
分类号
TN470.5 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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