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小剂量离子注入均匀性的工艺控制被引量：1

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摘要本文叙述了影响小剂量离子注入均匀性的几个主要因素,其中包括束流品质、离子束聚焦与扫描以及束流大小的选择等。同时介绍了如何控制这些因素来获取优异的注入均匀性,通过这些控制手段,均匀性可以优于5%,结果令人满意。

作者周坤

机构地区中国兵器工业第

出处《集成电路通讯》 2008年第4期41-43,共3页

关键词离子注入束流剂量均匀性

分类号 TN305.3 [电子电信—物理电子学] TQ171.612 [化学工程—玻璃工业]

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集成电路通讯

2008年第4期

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