脉冲离子渗碳炉

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摘要编号:C95—2—7脉冲离子渗碳技术是在真空渗碳和脉冲离子表面处理基础上发展形成的一种九十年代最新的渗碳技术,可简称为MLT技术,其基本原理是:在低真空脉冲直流电场作用下,将渗剂分解产生的碳离子轰击到处于渗碳温度的工件表面使之渗碳。

出处《中国高校科技》 1995年第2期5-5,共1页 China University Science & Technology

关键词离子渗碳脉冲直流电离子轰击气体渗碳表面处理真空渗碳渗碳温度低真空微机控制九十年代

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1995年第2期

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