期刊文献+

真空阴极多弧离子镀沉积纳米超硬氮化钛薄膜 被引量:2

Nano-superhard TiN film deposition by vacuum cathode multi-arc ion-plating technology
原文传递
导出
摘要 利用真空阴极多弧离子镀系统在Cr12Mo4V钢基材上制备出膜基间结合很好的纳米超硬氮化钛(TiN)薄膜。利用纳米硬度计、划痕仪、球-盘试验机、X射线衍射仪、透射电子显微镜和扫描电子显微镜分别考察了薄膜的纳米硬度、膜基间结合力、摩擦磨损性能和显微结构。结果表明,气体压力和脉冲基体负偏压对薄膜性能有重要影响;超硬TiN薄膜的纳米硬度为47.6 GPa、临界载荷为63 N、摩擦因数在0.5至0.8之间;结构细密的超硬薄膜在(111)晶面有强烈的择优取向。 A well-adherent nano-superhard titanium nitride (TiN)film was deposited on substrates of Crl2Mo4V steel by a vacuum cathode multi-arc ion-plated system. Nanohardness, film-to-substrate adhesion, tribological property and microstructure of a nano-superhard TiN film were investigated respectively using nanoindentor, scratch tester, ball-on-disc tester, X-ray diffractometer, transmission electron microscope and scanning electron microscope. The results show that the gas pressure and the pulsed substrate bias voltage have an important influence on the film properties. The average nanohardness of the film is 47.6 GPa, critical load (Lc ) between the film and the substrate is 63 N, and its frictional coefficient ranging between 0.5-0. 8 and the nano-superhard film contains a fine and dense structure with a strong preferential orientation on crystallographic plane( 111 ).
出处 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2008年第12期49-52,共4页 Heat Treatment of Metals
基金 中国地质大学(北京)科学钻探国家试验室开放基金项目(NLSD200706) 国际科技合作重大计划重大项目(2006DFB51260)
关键词 超硬氮化钛薄膜 性能 显微结构 superhard TiN film property microstructure
  • 相关文献

参考文献1

二级参考文献12

  • 1Schonjahn C, Bamford M, Donohue L A. Surf Coat Technol, 2000; 125:66 被引量:1
  • 2Wu S K, Lin H C, Liu P L. Surf Coat Technol, 2000; 124:97 被引量:1
  • 3Koski K, Holsa J, Juliet P. Surf Coat Technol, 1999; 115:163 被引量:1
  • 4Shieu F S, Cheng L H, Shiao M H. Surf Coat Technol,2000; 131:158 被引量:1
  • 5Kim G S, Lee S Y, Hahn J H. Surf Coat Technol, 2003;171:83 被引量:1
  • 6Lina S S, Huang J L, Sajgalik P. Surf Coat Technol, 2005;190:39 被引量:1
  • 7Alfonso D C, Elisabeth R P, Belarmino S G, Yulieth C A.Surf Coat Technol, 2005; 190:83 被引量:1
  • 8Posadowski W M. Thin Solid Films, 2001; 392:201 被引量:1
  • 9Faber J, Hotzsch G, Metzner C. Vacuum, 2002; 64:55 被引量:1
  • 10Shiao M-H, Shieu F-S. Thin Solid Films, 2001; 386:27 被引量:1

共引文献21

同被引文献28

引证文献2

二级引证文献6

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部