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GaN薄膜低温外延的ECR-PAMOCVD技术 被引量:16

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摘要 给出了用电子回旋共振微波等离子体辅助金属有机化学汽相沉积(ECR-PAMOCVD)技术和在低温(≤600℃)、极低气压(≤1Pa)下生长GaN外延膜的装置、工艺及实验结果。并与以往的GaN外延技术进行了比较,说明了这种新的低温外延技术的独特优点。
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1998年第1期37-39,共3页 Semiconductor Technology
基金 国家自然科学基金 "863"计划
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献7

  • 1徐茵,2nd Inter Conf Reactive Plasmas and 11th Symp,1994年 被引量:1
  • 2Ning Z Y,Vacuum,1992年,43卷,11期,1101页 被引量:1
  • 3顾彪,稀有金属,1997年 被引量:1
  • 4Strite S,J Vac Sci Technol,1991年,9卷,1924页 被引量:1
  • 5Yang H,Phys Status Solid B,1996年,194卷,109页 被引量:1
  • 6徐茵,核聚变与等离子体物理,1996年,16卷,50页 被引量:1
  • 7徐茵,Proceeding of 2nd International Conf on Reactive Plasma and 11th Sypm on Plasma Processing,1994年,541页 被引量:1

共引文献21

同被引文献80

引证文献16

二级引证文献23

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