巴斯夫与赢创合作研发化学机械研磨（CMP）液

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摘要赢创和巴斯夫共同宣布，两家公司将共同合作发展二氧化铈研磨液，用以制造计算机芯片。预计，这种研磨液将在2009年实现商品化。

出处《现代塑料》 2008年第8期12-12,共1页 Plastics Technology

关键词合作发展化学机械研磨巴斯夫研发计算机芯片二氧化铈研磨液商品化

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现代塑料

2008年第8期

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