摘要
以肉桂酸为原料合成新型含α,β-不饱和酮结构的光敏单体。然后在无水AlCl3、NMP及DCE的存在条件下,将新合成的单体与2,5-二氯对苯二甲酰氯(DCC)进行低温付-克缩聚反应,合成得到一类新型光敏性聚合物材料——氯取代聚肉桂酰胺酮(C-PAMIK)。对缩聚反应的工艺条件进行了优化,并初步表征了所得聚合物。
New photosensitive monomers contained with α, β- unsaturated ketones are synthesized with einnamie acid, then a series of novel photosensitive polymers, ehlom substituted poly （einnamide ketone）s, are prepared by Friedal-Crafts poly-eondensation of the new monomers and 2,5-diehloro-1,4-benzendiearbonyl ehloride（DDC）. The optimal eonditions for the poly- condensation are studied,and the prepared polymers are characterized.
出处
《现代化工》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第7期36-38,40,共4页
Modern Chemical Industry
关键词
光敏性聚合物
付-克缩聚
氯取代
聚肉桂酰胺酮
photosensitive polymers
Friedal-Crafts poly-eondensation
ehloro substituted
poly （einnamide ketone） s
