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化学镀Ni-W-Mo-P工艺研究 被引量:1

On the Process of Electroless Plating Ni-W-Mo-P Alloy
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摘要 为了获得四元化学镀Ni-W-Mo-P合金的高镀速、高硬度和高耐腐蚀性,以三元化学镀Ni-Mo-P的镀液配方为基础,研究了钨酸钠浓度、pH、施镀温度、时间对Ni-W-Mo-P合金镀层沉积速度、硬度、孔隙率、耐蚀性、腐蚀电位的影响,得出最佳化学镀工艺:30~40g/L钨酸钠;pH 9;85~90℃;1.5h。研究结果为化学镀Ni-W-Mo-P合金工艺提供了依据。 Effects of Na2WO4 concentration, pH value, temperature and time on the deposition rate, hardness, porosity corrosion resistance and corrosion potential of electroless plating Ni-W-Mo-P, were studied so as to improve the deposition rate, hardness and anti-eorrosion properties ofelectroless plating Ni-W-Mo-P respectively. Theoptimum process, composed of Na2WO4 (30-40 g/L), pH 9, temperatures (85-90 ℃), 1.5 h, was obtained. The study provided a solid base for obtaining a desired quality electroless plating Ni-W-Mo-P.
出处 《中国钨业》 CAS 北大核心 2008年第3期20-22,共3页 China Tungsten Industry
基金 材料腐蚀与防护四川省高校重点实验室科研基金资助项目(200706)
关键词 化学镀Ni—W—Mo—P 工艺 沉积速度 显微硬度 耐蚀性 腐蚀电位 electroless plating Ni-W-Mo-P process deposition rate micro-hardness corrosion resistance corrosion potential
  • 相关文献

参考文献6

二级参考文献14

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共引文献22

同被引文献6

引证文献1

二级引证文献11

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