摘要
到了45纳米技术节点,高介电常数绝缘材料和金属栅电极将被用于制造逻辑电路器件。而采用高金属功函数和能隙工程电荷陷阱的闪存也能从这些项技术中获益。
出处
《集成电路应用》
2008年第1期28-32,39,共6页
Application of IC
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