介电层刻蚀系统

下载PDF

导出

摘要 Lean Etch是一款为需要腐蚀介电层的客户开发的制造系统。其主机具有高产量的特点，带有晶圆处理系统，可以实现200wph的吞吐率。高度灵活的模块平台支持多达六个独立的工艺腔室。独特的“T源”等离子技术和“即刻”脉冲能力简化了工艺调节并可实现无损伤的原位等离子清洁。

出处《集成电路应用》 2007年第11期56-56,共1页 Application of IC

关键词制造系统介电层等离子技术刻蚀工艺调节吞吐率无损伤

1杨成炯,肖忠臣.往复式氢气压缩机的工艺调节[J].压缩机技术,2002(3):12-19. 被引量：3
2伊东速水,樊新举.水煤浆制造系统的研究[J].世界煤炭技术,1989(6):49-54.
3梁国治.煤灰中矿物组成分析[J].矿业科学技术,2005,33(4):27-29. 被引量：4
4武俊虎,杨晓光,罗振伟.调节阀在管路系统中的选型应用研究[J].机械工程师,2016(6):140-141. 被引量：1
5John Lindell.用于PV面板划线操作的移动平台[J].集成电路应用,2009,26(12):24-26.
6园区[J].中国高新区,2006(3):4-6.
7李钢,王伟,王书民.焦炉煤气柜运行参数的分析及调控[J].冶金动力,2006(6):26-27. 被引量：1
8横河电机发布新型光谱分析仪AQ6370B[J].国外电子测量技术,2008,27(10):76-76.
9周健,张勤,王小虎,肖浩锋.Lean System Design for Engineer-to-Order Manufacturing[J].Journal of Shanghai Jiaotong university(Science),2016,21(6):702-712.
10惠国保,方庆琯.随机命令下自动化立体仓库堆垛机使用率研究[J].物流技术,2008,27(2):114-117. 被引量：3

集成电路应用

2007年第11期

浏览历史

内容加载中请稍等...