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ZnO Films Fabricated Using RF Magnetron sputtering and Their Modification Under High Energy Xe Ion Irradiations

ZnO Films Fabricated Using RF Magnetron sputtering and Their Modification Under High Energy Xe Ion Irradiations
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出处 《近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报:英文版》 2006年第1期59-60,共2页 IMP & HIRFL Annual Report
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