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六硼化镧薄膜的制备及发射特性的研究 被引量:1

The Preparation of LaB_6 Thin Film and Its Emission Characteristics
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摘要 用阴极电泳的方法在Re衬底上制备了LaB6薄膜,用扫描电镜、X射线光电子能谱对样品的表面状况、化学组分进行了分析。经过真空烧结,采用真空热电子发射法测出了LaB6薄膜的逸出功。使用Richardson直线法测量薄膜的逸出功为2.56 eV,具有良好的电子发射性能。 LaB6 thin films were deposited on the Re ribbon by cathode electrophoretic method, the surface morphology and composition of the films were analyzed by scanning electron microscope and X-ray photoelectron spectrometer. After vacuum sinter, the work function of the films was measured by thermal electron beam method. The measurement of the work function was 2.56 eV by Richardson line method. It showed excellent electron emission characteristics.
出处 《真空电子技术》 2007年第5期44-47,共4页 Vacuum Electronics
关键词 LaB6薄膜 真空烧结 电泳 热发射 逸出功 LaB6 film Vacuum sinter Cathode electrophoresis Thermal emission Work function
  • 相关文献

参考文献6

  • 1成建波,冉启钧.LaB6阴极[M].成都:成都电讯工程学院出版社,1988. 被引量:1
  • 2王小菊 蒋亚东 林祖伦 等.单晶LaB6的制备及主要应用.强激光与离子束,2006,. 被引量:1
  • 3Susan J, Mroczkowski. Electron Emission Characteristics of Sputtered Lanthanum Hexaboride[J]. Vac Sci Techn, 1991, A9(3):586. 被引量:1
  • 4李建军,林祖伦,时晴暄,王小菊.硼化镧薄膜的发射特性研究[J].真空电子技术,2006,19(6):31-34. 被引量:3
  • 5埃弗雷特斯 F M,贝克尔斯 J L,Th P E M,等著,陶宗晋,方继康,译.等速电泳理论、仪器和应用[M].北京:科学出版社,1984. 被引量:1
  • 6Ociepa J G, Mroz S. Properties of Very Thin La-B Films Deposited on Tantalum [J]. Thin Solid Films , 1981,85:43-51. 被引量:1

二级参考文献6

  • 1Khairnar R S Mahajan P W,Joag D S,Proc essing and Characterization of LaB6-Coated Hairpin Cathodes[J].Vac Sci Technol,1985,A3(2). 被引量:1
  • 2Ociepa J G,Mroz S.The Adsorption of Lanthanum Hexaboride on Tantalum[M].1979. 被引量:1
  • 3Yutani Akie,Kobayashi Akihiko,Kinbara Akira.Work Functions of Thin LaB6 Films[J].Applied Surface Science,1993,70/71:737-741. 被引量:1
  • 4Ociepa J G.Effect of Annealing of La-B Films Investigated by Auger Electron Spectroscopy Thin Solid Films,1984,120:123-131. 被引量:1
  • 5Ociepa J G,Mroz S.Properties of Very Thin La-B Films Deposited on Tantalum[J].Thin Solid Films,1981,85:43-51. 被引量:1
  • 6窦菊英,杨德清,陈尔纲,朱长纯.ZrO/W(多晶)材料逸出功和发射常数的实验测定[J].真空电子技术,2000,13(2):52-53. 被引量:1

共引文献2

同被引文献4

引证文献1

二级引证文献1

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