摘要
采用反应离子刻蚀技术，制作二元光学元件锗透镜阵列，对红外材料锗Ge的SF6加O2刻蚀机理和刻蚀特性进行了分析．并给出了研究结果。
The Ge microlens array has been fabricated by reaction ion etching. The mecha-nism and performance of etching infrared material Ge with mixed SF6 and O2 are ana-lyzed. The research results are given.
出处
《微细加工技术》
1997年第1期60-64,共5页
Microfabrication Technology
