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高温氧化薄膜应力的测定 被引量:2

Analysis and Measurment of High Temperature Oxide Thin film Stress
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摘要 介绍一种高温氧化薄膜应力的测定技术,它能在一定高温氧化条件下原位测定氧化膜中的生长应力,在某一温度变化范围内原位测定氧化膜中的热应力. A measuring technique of high temperature oxide thin film stress is introduced. The growth stresses of the oxide thin film can be measured on the condition of the constant high temperature oxidation and the thermal stresses can be measured within the variations of a certain temperature. The measuring technique can be carried out with an ordinary diffractometer.
出处 《上海交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第1期80-82,共3页 Journal of Shanghai Jiaotong University
基金 国家自然科学基金 华东分析测试中心测试基金
关键词 氧化薄膜 生长应力 应力 测定 高温 oxide film growth stresses thermal stresses
  • 引文网络
  • 相关文献

参考文献2

  • 1李铁潘,理化检验,1986年,22卷,6期,38页 被引量:1
  • 2田莳,金属物理性能,1985年,156页 被引量:1

同被引文献15

引证文献2

二级引证文献6

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