臭氧推动隧道氧化层的发展

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摘要闪存器件中预氧化湿法清洗的作用很重要．因为虽然它们并不像逻辑栅的尺寸那样快速地缩小．但是他们比逻辑栅需要更低的泄漏性能．通常在更高的电压下工作。最近的基础研究采用了非接触和传统电性测试探究了预清洗特性对氧化层质量的影响。

作者 Laura Peters

机构地区 emiconductor Intermational

出处《集成电路应用》 2006年第11期30-30,共1页 Application of IC

关键词隧道氧化层臭氧湿法清洗闪存器件基础研究预氧化预清洗非接触

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集成电路应用

2006年第11期

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