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V型槽衬底内条形大光腔可见光半导体激光器

V-CHANNELED SUBSTRATE INNER STRIPE VISIBLE SEMICONDUCTOR LASER WITH A LARGE OPTICAL CAVITY
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摘要 采用一种新的液相外延工艺,研制出了具有大光胶结构的V型槽衬底内条形可见光发射半导体激光器。其光谱波长为779~784um,室温连续工作阈值电流为60mA,具有2倍阈值的基模工作时,线性输出光功率可达18mW,4mW下工作寿命已超过3000小时。 Using a new kind of liquid-phase epitaxy technology, V-channeled substrate inner stripe visible GaAlAs semiconductor laser with a large optical cavity is fabricated. Its wavelength ranges from 779 to 784um, threshold current is 60mA at room temperature with CW Operation. The linear laser output power operated at the fundamental mode with two fold threshold values is 18mW. The CW operation time at 4mW is longer than 3000 hours.
机构地区 河北工业大学
出处 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1996年第5期18-21,共4页 Spectroscopy and Spectral Analysis
关键词 V型 槽衬底 内条形 大光腔 半导体激光器 V-channeled substrate, Inner stripe, Large optical cavity, Semiconductor laser
  • 相关文献

参考文献1

二级参考文献4

  • 1马骁宇,半导体光电,1988年,9卷,2期,4页 被引量:1
  • 2杜国同,半导体学报,1988年,9卷,3期,335页 被引量:1
  • 3刘宏勋,半导体学报,1987年,8卷,2期,214页 被引量:1
  • 4余金中,半导体学报,1985年,6卷,2期,123页 被引量:1

共引文献1

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