摘要
上世纪80年代开始，磁控溅射技术得到迅猛的发展，其应用领域得到了极大地推广。现在磁控溅射技术已经在镀膜领域占有举足轻重的地位，在工业生产和科学领域发挥着极大的作用。随着对薄膜质量要求的不断改变，此项技术也将不断地完善和发展下去。本文将向读者介绍磁控溅射技术的发展历程，并详细讨论多靶闭环非平衡磁控溅射、脉冲磁控溅射。高速率磁控溅射及自溅射、可变场磁控溅射等各项技术的特点和应用。
出处
《中国青年科技》
2006年第8期56-59,共4页
China Youth Science and Technology
