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脉冲激光沉积法在硅衬底上制备氧化锌薄膜 被引量:4

PREPARATION OF ZINC OXIDE FILMS ON SILICON SUBSTRATE BY PULSED LASER DEPOSITION
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摘要 用脉冲激光沉积法(PLD)在n型Si(Ⅲ)面上生长了ZnO薄膜.采用X射线衍射分析、原子力显微镜分析、傅里叶红外吸收光谱和拉曼光谱技术,测试了ZnO薄膜的结构、表面形貌和振动特性. ZnO thin films were deposited on n - Si (Ⅲ ) substrate by pulsed laser deposition (PLD). The structural and vibrational properties of ZnO thin films were performed with X - ray diffraction, Atomic force microscopy, FTIR and Raman spectroscopy.
出处 《山东师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2006年第2期51-52,共2页 Journal of Shandong Normal University(Natural Science)
基金 国家自然科学基金资助项目(10474059 90301002和90201025) 山东省自然科学基金资助项目(Y2003A01)
关键词 氧化锌薄膜 脉冲激光沉积 拉曼光谱 ZnO thin films pulsed laser deposition Raman
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参考文献3

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共引文献18

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