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离子注入硅的连续CO2激光退火
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摘要
激光退火用在半导体材料上,现在国内外都还在试验阶段,所用的激光器主要是红宝石激光器、钕玻璃激光器和氩离子激光器。
机构地区
南开大学物理系光学教研室、半导体教研室
出处
《四川激光》
1981年第A02期59-60,共2页
Laser Journal
关键词
激光退火
离子注入
CO2
红宝石激光器
氩离子激光器
钕玻璃激光器
半导体材料
硅
国内外
分类号
TN304.26 [电子电信—物理电子学]
TN305.3
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0
1
肖鸿飞,苗俊.
半导体进行激光退火时预热温度的计算[J]
.沈阳工业大学学报,1998,20(1):94-96.
2
杜开瑛,莫敏.
脉冲式XeCl激光辐照a-Si∶H膜诱导晶化的研究[J]
.四川大学学报(自然科学版),1994,31(1):57-63.
被引量:1
四川激光
1981年 第A02期
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