摘要
我们研制了一台用于光刻的ＫｒＦ准分子激光器（２４８ｎｍ），单脉冲能量２００ｍＪ平均功率５～９Ｗ，能量不稳定度＜土５％，脉宽３５ｎｓ，线宽０．５２ｎｍ，重复频率０．５～１００Ｈｚ，单次充气寿命＞５×１０５次脉冲数，储气寿命约一个月，近场光斑尺寸８ｍｍ×２０ｍｍ，性能指标和光束的均匀性满足了光刻的要求。
A krF excimer laser (248nm) for optical etching is developted. The property of the laser is followlly described: pulse energy 200. mJ,average power 5-9W, pulse to pulse stability <5%, pulse duration 35ns, line width 0. 52nm, repitition rate 0. 5-100Hz, beam dimensions 8mm×20mm, one gas fitting>5×105 pulses and storage of one month.
出处
《应用激光》
CSCD
北大核心
1995年第1期22-25,共4页
Applied Laser
