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四电极和五电极离子注入机的离子光学 被引量:1

ION OPTICS OF ION IMPLANTERS WITH FOUR OR FIVE ELECTRODES
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摘要 本文主要给出四电极引出系统中,最佳电场强度比随间隙间距的变化,以及最佳导流系数比随电场强度比和间隙间距比的变化的一般表达式。当间隙间距比由0.5变至3.2时.电场强度比仅由1.81减至1.46。 General expressions for variation of the optimum electric field intensity ratio versus the gap spacing ratio as well as the optimum perveance ratio versus the electric field intensity ratio and the gap spacing ratio in extractoin systems with four electrodes are presented in the paper. The electric field intensity ratio reduces from 1. 81 to 1. 46 as the gap spacing ratio varies from 0. 5 to 3. 2.
作者 王耿介
出处 《核聚变与等离子体物理》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第4期34-39,共6页 Nuclear Fusion and Plasma Physics
  • 相关文献

参考文献1

  • 1Tsai C C,Nuclear Technology/Fusion,1983年,4卷,2期,1424页 被引量:1

同被引文献3

  • 1Dietrich J. A Linear Ion Optics Model for Extraction from a Plasma Ion Source. Nuclear Instruments and methods in Physics Research, 1987. A262 : 163. 被引量:1
  • 2董谦.宽形束离子源离子光学系统的一些问题[J].真空电子技术,1987,(03). 被引量:1
  • 3Ian Brown. The Physics and Technology of Ion SourcesSecond Edition,2004. 被引量:1

引证文献1

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