XeCl激光与铜蒸气激光诱导硅中掺硼的比较

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摘要讨论了XeCl激光和铜蒸气激光（CVL）诱导硅中掺硼的实验比较结果。CVL诱导掺硼是首次由本课题完成的。激光掺杂之P－N结结深可小于0．2μm，表面硼浓度大于1021cm-3。CVL激光掺杂制成的太阳能电池最高光电效率比XeCl激光高8％，表明CVL激光在激光诱导掺杂中具有明显优势。

作者钱育军潘佰良

机构地区浙江大学物理系

出处《光学仪器》 1995年第4期12-15,共4页 Optical Instruments

基金国家自然科学基金

关键词铜蒸气激光诱导掺杂氯化氙激光

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光学仪器

1995年第4期

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