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国外准分子激光步进机的发展概况及前景
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摘要
本文概述了准分子激光步进机的发展概况,预测了在今后几代集成电路生产中的广阔前景。主要介绍了准分子激光窄谱带宽控制,中心波长调准的稳定性要求,光学系统设计与材料要求,以及对步进扫描曝光技术研究的迫切性。
作者
葛劢
机构地区
电子工业部第
出处
《电子工业专用设备》
1995年第4期1-6,共6页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
透镜匹配
光刻
曝光量
准分子激光器
步进机
分类号
TN248.203 [电子电信—物理电子学]
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电子工业专用设备
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