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77K MOSFET计算机模拟增量限制方法

A Increment Limit Method for MOSFET Simulation at 77 K
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摘要 对低温器件计算机模拟方法作了具体的考虑。从求解变量和半导体物理意义出发,数值计算结果事先有一个定性范围,如果每一次循环的迭代初值都修正到这个数值范围内,那么选代过程将以更快的速度接近真解。提出了适用于低温半导体器件计算机模拟的增量限制方法,并且将该方法插入MINIMOS4.0进行了数值实验。结果表明,设置增量限制能保证低温半导体器件模拟的数值收敛性,并巨有较快的收敛速度。 The simulation method for semiconductor device at low-temperatureis considered from both numerical and physical view. The increment limit methodsuitable for MOSFET simulation at 77 K is presented. Computer test for thismethod is carried out by using MINIMOS4. 0. Numerical results indicate that theincrement limit method is convergent fast for 77 K device. simulation.
出处 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1994年第4期323-327,共5页 Research & Progress of SSE
基金 国家自然科学基金
关键词 MOSFET 场效应晶体管 计算机模拟 增量限制 Low-temperature Device, Simulation, Increment Limit Method
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