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半导体生产用的高纯气体述评
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摘要
半导体、集成电路是项更新换代十分迅速的产业。在六十年代中,电路的集成度每年翻一番,七十年代,平均每三年增加四倍。进入八十年代后,仍将以每二年翻一番的速度增加。伴随这种发展,要求与使用的气体品种、质量和数量也急剧增加和提高。关于国外气体的质量标准已有详细综述,本文仅限于述评近年来高纯气体方面的特点和常用工业气体的供气方式。
作者
林耀泽
机构地区
电子部
出处
《低温与特气》
CAS
1984年第1期8-14,共7页
Low Temperature and Specialty Gases
关键词
高纯气体
半导体生产
述评
集成电路
质量标准
供气方式
工业气体
年代
集成度
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
TQ116.02 [化学工程—无机化工]
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1984年 第1期
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