硅衬底上异质外延GaAs

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摘要综述了ＧａＡｓ／Ｓｉ异质外延材料的性能及应用前景，分析了进一步提高材料质量所面临的问题，重点介绍了降低外延层缺陷方面的研究进展。

作者余怀之

机构地区北京有色金属研究总院

出处《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 1994年第1期66-70,50,共6页 Chinese Journal of Rare Metals

关键词硅衬底砷化镓外延生长

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稀有金属

1994年第1期

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