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射频磁控溅射制备纳米PLT薄膜的研究 被引量:1

Preparation of Nanocrystalline PLT Thin Films by RF Magnetron Sputtering
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摘要 用射频磁控溅射技术,在玻璃衬底上制备出纳米级PLZT薄膜.XRD、TEM分析表明,薄膜为纯钙钛矿结构,平均粒径为2~5nm.Raman光谱表明,纳米级晶粒尺寸使得薄膜的Raman峰向低波数方向移动. Nanocrystalline PLT thin films have been prepared on glass substrates by RF magnetron sputtering.TEM and XRD analyses indicate that PLT thin films with perovsikte structure are comprised of 2 ̄5nm grains. Raman peaks shift towards a low frequency region due to nano grain size in PLT films.
出处 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1994年第3期371-374,共4页 Journal of Inorganic Materials
基金 攀登计划A资助
关键词 纳米 PLT薄膜 铁电体 射频磁控溅射 nanocrystalline material, PLZT thin film, RF magnetron sputtering
  • 相关文献

参考文献1

  • 1罗维根,无机材料学报,1992年,7卷,176页 被引量:1

同被引文献2

引证文献1

二级引证文献6

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