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MLPX型单面毛圈机双沉降片机构的工艺分析

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摘要 本文结合引进消化工作,分析了双沉降片机构独特的成圈原理,探讨了单面毛圈机上防露底的最佳上机工艺。
作者 陈泽聪
机构地区 上饶市针织总厂
出处 《上海纺织科技》 北大核心 1989年第3期32-35,共4页 Shanghai Textile Science & Technology
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