绝缘膜薄膜化达到极限希望寄托于高k材料
出处
《电子设计应用》
2004年第9期63-74,共12页
Electronic Design & Application World
-
1绍莹.LSI设计过程控制[J].电子产品世界,2002,9(12B):10-10.
-
2高山良一,富田佳宏,阿部惇,郭秀芬.PbTiO_3系热释电材料的薄膜化[J].压电与声光,1989,11(3):69-73.
-
3冯著明.液晶显示译码驱动电路的LSI设计[J].桂林电子工业学院学报,1992,12(1):25-30. 被引量:1
-
4夏凌,李珊君,魏金成.恒虚警率门限判决电路的ispLSI设计[J].四川大学学报(自然科学版),2000,37(2):202-206.
-
5绍莹.LSI设计文化之革新[J].电子产品世界,2002,9(10B):12-13.
-
6谢晴.先锋BDR-206MBK蓝光容量新纪元[J].新电脑,2011(1):22-22.
-
7孙军.试论CAD技术在机械设计中的应用[J].中国机械,2013(7):155-155.
-
8陈永明.CAD技术应用在机械设计中的常见问题分析[J].经济技术协作信息,2008(14):88-88.
-
9赵永权.CAD技术在机械设计中的问题分析[J].民营科技,2011(7):124-124.
-
10马玉琼.探讨CAD技术在机械工程设计中的发展与应用[J].电脑迷,2016(11). 被引量:3
;