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100keV同位素分离和离子注入装置及其应用

Ion Beam Applications on a 100keV EMIS and Ion Implanter
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摘要 本文介绍了一台通用性低能离子束装置、主要性能、利用它开展的一些新的离子束应用及实验结果。 A versatile low energy ion facility and its main specifications are described. Some newion beam applications and experimental results are given.
出处 《核物理动态》 CSCD 1993年第4期39-42,共4页
关键词 同位素分离 离子注入 材料改性 isotope separation ion implantation material modification ^(57)Fe C_(60)
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