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基于数字化二次曝光干涉的光学元件波前畸变测量 被引量:1

A double-exposure digital holographic interferometry using to measure wavefront distortion
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摘要 将傅立叶变换条纹分析方法与二次曝光全息干涉计量相结合 ,提出了数字化二次曝光干涉术 ,用于测量光学元件引入的波前畸变。文中给出了理论分析 ,模拟与光学实验结果证实提出的方法具有高精度、快速的波前测量特点 。 Combinating the Fourier transforming fringe analysis with double-exposure holographic interferometry,we propose a double-exposure digital holographic interferometry using to measure wavefront distortion of optical elements in the optical system.The theory analysis is presented in the paper,and the simulation as well as experiments results show the efficiency of the proposed for measuring wavefront distortion of laser beam at online.
作者 伍波 陈怀新
出处 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2003年第3期54-55,共2页 Laser Journal
基金 国家自然科学基金委 中国工程物理研究院联合基金项目( 10 1760 18)资助
关键词 傅立叶变换条纹分析 全息干涉计量 二次曝光干涉术 光学元件 波前畸变 实验结果 在线检测 Double-exposure digital holographic interferometry,Fourier transform fringe analyze,Wavefront distortion
  • 相关文献

参考文献6

二级参考文献8

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共引文献10

同被引文献10

引证文献1

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