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芬顿氧化处理显影脱膜废液的研究 被引量:1

Research of developer and stripper wastewater treatment by Fenton Oxidation
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摘要 在印制电路板制造流程中,会产生大量废水废液需要处理。其中,显影脱膜废液因溶解了大量干膜、感光阻焊油墨,故化学需氧量(COD)很高,必须通过有效方法加以去除,最终达到环保要求标准后,才可排放。本文对该类废液经典处理方法之芬顿氧化工艺进行了研究,确认该工艺中硫酸亚铁、双氧水、pH对处理效果的影响,以摸索最佳工艺条件,降低物料耗用成本。 在印制电路板制造流程中,会产生大量废水废液需要处理。其中,显影脱膜废液因溶解了大量干膜、感光阻焊油墨,故化学需氧量(COD)很高,必须通过有效方法加以去除,最终达到环保要求标准后,才可排放。本文对该类废液经典处理方法之芬顿氧化工艺进行了研究,确认该工艺中硫酸亚铁、双氧水、pH对处理效果的影响,以摸索最佳工艺条件,降低物料耗用成本。
作者 孟凡义
出处 《印制电路信息》 2011年第S1期333-338,共6页 Printed Circuit Information
关键词 显影脱膜废液 处理 芬顿氧化 化学需氧量 Developing and Stripping Wastewater Treatment Fenton Oxidation Chemical Oxygen Demand(COD)
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