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集成铁电学工艺的研究

STUDY ON INTEGRATED FERROELECTRICS TECHNOLOGY
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摘要 介绍集成铁电学的内容及发展,研究快速退火工艺对钛酸铋铁电薄膜铁电性、剩余极化强度、介电常数、绝缘性和介电损耗的影响.
作者 苏学军 李岩
出处 《海军航空工程学院学报》 2002年第4期480-482,共3页 Journal of Naval Aeronautical and Astronautical University
  • 相关文献

参考文献4

  • 1[1]S.L.Swartz and V.E.Wood. ferroelectric thin films[J].Vol. 1 .(5). 1992 CONDENSED MATTER NEWS 被引量:1
  • 2[2]SHU-YAN WU A new ferroelectric memory device metalferroelectric-semiconductor transistor [J]. IEEE TRANSACTIONS ON .ELECTRON DEVICES, AUGUST 1974 被引量:1
  • 3[3]P.C.Joshi and S.B.Krupanidhi Switching, fatigue and retention in ferroelectric Bi4Ti3O12 thin films[J]. Appl. Phys.lett.62(16), April 1993 被引量:1
  • 4[4]H.Wang, L.W. Fu and S.X.Shang. Preparation and properties of Bi4Ti3O12 single-crystal thin films by atmospheric pressure metalorganic chemical vapor deposition [J]..Appl.Phys.73(11),l June 1993 被引量:1

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