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应用等离子体溅射方法制备钯-银合金复合膜及其膜表征 被引量:4
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作者 赵宏宾 熊国兴 +1 位作者 H.Brunner N.Stroh 《中国科学(B辑)》 CSCD 北大核心 1999年第2期174-180,共7页
研究应用等离子体溅射方法制备钯 银合金复合膜 ,并用电子显微镜和高温气体渗透测定来表征膜的质量 .用sol gel方法在工业微滤氧化铝陶瓷膜上沉积纳米孔γ Al2 O3 膜 ,以改善衬底表面的粗糙度 ,降低气相沉积过程中的阴影效应 .以改进钯... 研究应用等离子体溅射方法制备钯 银合金复合膜 ,并用电子显微镜和高温气体渗透测定来表征膜的质量 .用sol gel方法在工业微滤氧化铝陶瓷膜上沉积纳米孔γ Al2 O3 膜 ,以改善衬底表面的粗糙度 ,降低气相沉积过程中的阴影效应 .以改进钯 银合金膜的气密性为目标来优化等离子体溅射方法的沉积条件 (衬底温度及沉积压力等 ) .典型的钯 银合金复合膜具有氢渗透速率 :0 .0 36× 10 -5 ~ 1.17× 10 -5cm3 /cm2 ·s·Pa ,氢对氮的分离选择性 :5 1.5~ 10 0 0 ,测试条件 :温度为 35 0~ 45 0℃ ,膜两侧压力降为 10 4~ 10 5 展开更多
关键词 复合膜 催化剂 氢脆 等离子体溅射
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