区熔法拉制硅芯的生产工艺及质量控制

1

作者 刘虎 魏强 杜斌功 《产业创新研究》 2024年第14期87-89,共3页

目前,多晶硅的主要生产工艺为改良西门子法,该工艺中硅芯作为硅沉积的载体,其品质对棒状硅的质量有着较大的影响。本文详细阐述了区熔法拉制的硅芯从拉制阶段直至装炉的全部工序,将其分为拉制阶段、机械加工阶段、清洗干燥阶段以及包装... 目前,多晶硅的主要生产工艺为改良西门子法,该工艺中硅芯作为硅沉积的载体,其品质对棒状硅的质量有着较大的影响。本文详细阐述了区熔法拉制的硅芯从拉制阶段直至装炉的全部工序,将其分为拉制阶段、机械加工阶段、清洗干燥阶段以及包装阶段四个阶段,并分阶段详细分析了各工序中影响硅芯质量的因素进行了探讨。 展开更多

关键词 圆硅芯 区熔 硅芯质量 工艺

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电子级多晶硅制备过程中的质量影响因素研究

2

作者 董丰琦 危胜 《产业创新研究》 2024年第14期96-98,共3页

电子级多晶硅是电子信息产业重要的基础材料,被广泛应用于集成电路、光伏电池、太阳能电池等领域。电子级多晶硅质量的高低直接影响到下游产品的性能和可靠性。因此,深入分析电子级多晶硅制备过程中的质量影响因素,对于提高产品质量和... 电子级多晶硅是电子信息产业重要的基础材料,被广泛应用于集成电路、光伏电池、太阳能电池等领域。电子级多晶硅质量的高低直接影响到下游产品的性能和可靠性。因此,深入分析电子级多晶硅制备过程中的质量影响因素,对于提高产品质量和加快我国电子信息产业发展具有重要意义。基于此,本文首先概述了电子级多晶硅的发展与现状,并重点分析了影响电子级多晶硅质量的关键因素,以期为电子级多晶硅生产过程的控制和改进提供参考。 展开更多

关键词 电子级多晶硅 制备过程 质量影响

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串级PID控制在蒸汽凝液回收系统中的应用

3

作者 蒙小莉 郑灿杰 李学峰 《产业创新研究》 2024年第14期105-107,共3页

为了实现对精馏塔换热器等蒸汽及凝液的余热回收利用,借助凝液回收罐液位的高低对凝液回收泵的启停和液位联锁值实现自动控制。但是简单控制系统不能保证设备的安全工作,会造成设备的故障率增高。通过在现有凝液回收系统中凝液泵的出口... 为了实现对精馏塔换热器等蒸汽及凝液的余热回收利用,借助凝液回收罐液位的高低对凝液回收泵的启停和液位联锁值实现自动控制。但是简单控制系统不能保证设备的安全工作,会造成设备的故障率增高。通过在现有凝液回收系统中凝液泵的出口增压力变送器,凝液泵实现变频控制。通过集散控制系统(DCS)实现远程控制凝液泵启停,减少工艺生产中的人员浪费,引入串级控制方式和比例积分微分(PID)参数整定调节功能,实现对凝液泵的柔性控制,降低设备故障率,减少检修频次的目标。 展开更多

关键词 凝液回收系统 分散控制系统 串级控制 比例积分微分

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多晶硅废水处理过程中的关键因素分析

4

作者 郭海龙 张利华 +2 位作者 马玺坤 贺庭盛 张景琪 《大众标准化》 2024年第18期62-64,共3页

随着我国光伏产业的迅猛发展,多晶硅作为主要的基础材料,市场需求量不断增加,然而多晶硅废水在处理过程中仍存在的诸多难点亟待解决。结合多晶硅废水处理传统工艺,从来水水质分析、制约当前多晶硅废水处理的关键因素,以及多晶硅废水零... 随着我国光伏产业的迅猛发展,多晶硅作为主要的基础材料,市场需求量不断增加,然而多晶硅废水在处理过程中仍存在的诸多难点亟待解决。结合多晶硅废水处理传统工艺,从来水水质分析、制约当前多晶硅废水处理的关键因素,以及多晶硅废水零排放工艺的未来展望进行了简要的论述,力求能够为多晶硅废水处理行业提供部分参考意见,携手打破技术壁垒,早日实现多晶硅废水零排放、无害化的可持续发展路线。 展开更多

关键词 多晶硅 废水处理 硅渣 零排放

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电子级多晶硅清洗工艺探讨 被引量：1

5

作者 杜斌功 刘虎 《山西化工》 CAS 2023年第7期61-63,共3页

电子级多晶硅在还原炉中生长完成后,经收割、破碎、筛分、清洗、包装、入库等工序处理后才能提供给下游厂家。整个后处理流程的每一个环节都可能会引入杂质,这些杂质会对多晶硅表层造成污染。电子级多晶硅对硅块表面的杂质含量要求很高... 电子级多晶硅在还原炉中生长完成后,经收割、破碎、筛分、清洗、包装、入库等工序处理后才能提供给下游厂家。整个后处理流程的每一个环节都可能会引入杂质,这些杂质会对多晶硅表层造成污染。电子级多晶硅对硅块表面的杂质含量要求很高,清洗是控制电子级多晶硅产品表面杂质的有效手段。为了有效去除电子级多晶硅块表面金属、有机物等杂质,需利用高纯度的化学品对破碎后的硅块进行清洗,再用超纯水漂洗表面残留的污染物后进行干燥。因此,简要分析了后处理过程中表面杂质的引入过程、存在形式及去除方法[1]。 展开更多

关键词 多晶硅 表面金属 改良西门子法 清洗 酸洗

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振动时效和热时效对原生多晶硅棒应力消除研究 被引量：1

6

作者 刘虎 杜斌功 周国峰 《中国石油和化工标准与质量》 2023年第8期98-100,共3页

在还原炉内硅芯既是硅沉积的载体,也是还原炉的热源[1-2]。随着多晶硅生产工艺升级以及生产规模的扩大,使用线切割机切割的方硅芯[3-4]已逐步替代了区熔法拉制的圆硅芯[5]。本文对使用原生多晶硅棒切割方硅芯的工艺可行性进行了讨论,重... 在还原炉内硅芯既是硅沉积的载体,也是还原炉的热源[1-2]。随着多晶硅生产工艺升级以及生产规模的扩大,使用线切割机切割的方硅芯[3-4]已逐步替代了区熔法拉制的圆硅芯[5]。本文对使用原生多晶硅棒切割方硅芯的工艺可行性进行了讨论,重点讨论了热时效和振动时效对原生多晶硅棒应力释放的处理效果。 展开更多

关键词 振动时效 热时效 线切割 残余应力 多晶硅

原文传递

多晶硅生产工艺中氯化氢的回收利用

7

作者 王金宝 胡国清 汪占财 《中国石油和化工标准与质量》 2023年第8期13-15,共3页

通过将多晶硅还原工序副产物氯化氢回收后通入氢化氯化工序FBR反应器(流化床反应器)中与四氯化硅、金属硅粉、氢气在催化剂作用下进行气固反应,实现三氯氢硅的增产、降低四氯化硅的消耗量、氢元素和氯元素的循环利用等目的。

关键词 氢化氯化 氯氢化 氯化氢 循环利用

原文传递

用高分辨电感耦合等离子体质谱仪检测电子级多晶硅中表面金属杂质的方法

8

作者 申梅桂 薛心禄 +1 位作者 马淑霞 曹得芳 《当代化工研究》 2023年第1期51-53,共3页

将多晶硅试样用硝酸、氢氟酸和水的混酸(1:1:10)浸取后,在硝酸介质中,用高分辨电感耦合等离子体质谱仪定量检测电子级多晶硅中表面金属杂质痕量分析方法。对杂质成分Na、K、Fe、Ca等的测定同位素和分辨率的比对研究,优选出最佳参数可显... 将多晶硅试样用硝酸、氢氟酸和水的混酸(1:1:10)浸取后,在硝酸介质中,用高分辨电感耦合等离子体质谱仪定量检测电子级多晶硅中表面金属杂质痕量分析方法。对杂质成分Na、K、Fe、Ca等的测定同位素和分辨率的比对研究,优选出最佳参数可显著减少对绝大多数多原子离子以及对电荷分子干扰的影响危害,实现了被测元素与干扰元素的完全分离。标准曲线线性R值>0.999,方法检出限<5ng/L,采用MSA分析Na、K、Ca、Fe元素的测量精确度R&R%<10%。 展开更多

关键词 金属杂质检测 高分辨质谱 方法

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深能级瞬态谱检测电子级多晶硅中的痕量Zn元素含量的研究应用

9

作者 支云云 薛心禄 +1 位作者 王志强 岳玉芳 《当代化工研究》 2023年第1期57-59,共3页

本文研究用深能级瞬态谱(DLTS)分析电子级多晶硅中的痕量Zn元素含量,首先采用传统电容深能级变温测试方法,通过测试发现没有有效结果,接着对测试方法进行改进,采用光生深能级测试方式进行测试,测试结果表明在整个变温范围内瞬态曲线符... 本文研究用深能级瞬态谱(DLTS)分析电子级多晶硅中的痕量Zn元素含量,首先采用传统电容深能级变温测试方法,通过测试发现没有有效结果,接着对测试方法进行改进,采用光生深能级测试方式进行测试,测试结果表明在整个变温范围内瞬态曲线符合测试预期。虽然整体变温结果仍然无法进行有效数据拟合,但从测试结果表明,测试条件在137K时,发现有一相对较强特征峰,根据该峰对应的瞬态测试曲线推定是Zn元素产生的,浓度约在2×1014cm-3。 展开更多

关键词 深能级瞬态谱 电子级多晶硅 痕量Zn元素

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还原炉倒棒原因及改进措施研究 被引量：2

10

作者 李有斌 陈叮琳 俞朝 《中国石油和化工标准与质量》 2022年第3期47-49,共3页

还原炉作为生产多晶硅的关键设备,生产多晶硅过程中常常出现倒棒现象,对还原炉产生严重损坏,重点针对硅棒沉积前期、中期、后期三个阶段倒棒的危害、原因进行分析,从还原炉喷嘴分布和大小、电极结构、石墨卡头结构、硅芯尺寸等方面进行... 还原炉作为生产多晶硅的关键设备,生产多晶硅过程中常常出现倒棒现象,对还原炉产生严重损坏,重点针对硅棒沉积前期、中期、后期三个阶段倒棒的危害、原因进行分析,从还原炉喷嘴分布和大小、电极结构、石墨卡头结构、硅芯尺寸等方面进行改进,有利于降低还原炉硅棒倒棒率,提高生产效率,降低对还原炉设备的损坏。 展开更多

关键词 还原炉 沉积 倒棒

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树脂除碳技术在超纯三氯氢硅提纯工艺中的应用 被引量：1

11

作者 许正清 王金宝 《化工管理》 2022年第3期67-69,共3页

三氯氢硅的合成过程中会引入碳杂质,在多晶硅和作为硅源的硅外延片生产中很容易发生沉积,形成晶格点缺陷,从而影响半导体材料的性能。高纯三氯氢硅中碳杂质主要以甲基二氯硅烷形式存在,而甲基二氯硅烷沸点与三氯氢硅接近,依靠单纯的精... 三氯氢硅的合成过程中会引入碳杂质,在多晶硅和作为硅源的硅外延片生产中很容易发生沉积,形成晶格点缺陷,从而影响半导体材料的性能。高纯三氯氢硅中碳杂质主要以甲基二氯硅烷形式存在,而甲基二氯硅烷沸点与三氯氢硅接近,依靠单纯的精馏法很难去除。文章重点介绍普通精馏法、吸附法、反应精馏法等几种三氯氢硅除碳方法,经过对比分析,精馏与树脂吸附相结合是目前比较有效的三氯氢硅除碳工艺。 展开更多

关键词 碳杂质 甲基二氯硅烷 树脂除碳 三氯氢硅

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原生多晶硅切割方硅芯技术研究 被引量：1

12

作者 陈叮琳 李有斌 李宏盼 《中国石油和化工标准与质量》 2022年第4期171-173,共3页

硅芯作为多晶硅生产过程中还原炉沉积生长所用的载体,目前主要有硅芯炉拉制圆硅芯和线切割方硅芯两种生产方式,通过对圆硅芯和方硅芯多方面进行对比分析,因为圆硅芯在硅芯基料熔化凝固的拉制过程中特别容易受到一些杂质污染,所以重点对... 硅芯作为多晶硅生产过程中还原炉沉积生长所用的载体,目前主要有硅芯炉拉制圆硅芯和线切割方硅芯两种生产方式,通过对圆硅芯和方硅芯多方面进行对比分析,因为圆硅芯在硅芯基料熔化凝固的拉制过程中特别容易受到一些杂质污染,所以重点对原生多晶硅棒切割方硅芯进行研究,方硅芯是由原生多晶硅棒直接切割而成,减少了外界杂质的污染,有利于减少硅芯杂质引入,大幅提升电子级多晶硅产品的质量。 展开更多

关键词 原生多晶硅 方硅芯 致密度

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电子级多晶硅循环氢气深冷分离除杂技术研究 被引量：2

13

作者 李有斌 陈叮琳 李宏盼 《化学与生物工程》 CAS 2021年第6期59-61,共3页

通过分析多晶硅还原炉尾气回收装置循环氢气中杂质的种类、来源、去除工艺,确定采取循环氢气深冷分离除杂技术解决磷化氢、砷化氢在氢气循环过程中的累积趋势,可以有效分离循环氢气中70%磷化氢和95%砷化氢,保证还原炉化学气相沉积过程... 通过分析多晶硅还原炉尾气回收装置循环氢气中杂质的种类、来源、去除工艺,确定采取循环氢气深冷分离除杂技术解决磷化氢、砷化氢在氢气循环过程中的累积趋势,可以有效分离循环氢气中70%磷化氢和95%砷化氢,保证还原炉化学气相沉积过程中循环氢气的纯度。 展开更多

关键词 电子级多晶硅 循环氢气 深冷 杂质

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电子级多晶硅生产中硅芯杂质的来源 被引量：2

14

作者 张才刚 俞朝 +2 位作者 陈叮琳 李宏盼 李有斌 《化工管理》 2020年第31期73-74,共2页

硅芯在制造过程中和在还原炉初期沉积过程中不同程度受到杂质的污染,本论文针对硅棒生长过程中硅芯部位杂质来源,从石墨部件、惰性气体、硅芯制备工艺、洁净操作等各个环节的杂质污染情况着手试验研究,找到电子级多晶硅硅芯杂质的主要... 硅芯在制造过程中和在还原炉初期沉积过程中不同程度受到杂质的污染,本论文针对硅棒生长过程中硅芯部位杂质来源,从石墨部件、惰性气体、硅芯制备工艺、洁净操作等各个环节的杂质污染情况着手试验研究,找到电子级多晶硅硅芯杂质的主要来源。 展开更多

关键词 电子级多晶硅 硅芯 杂质

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电子级多晶硅生产还原尾气中无定型硅去除工艺研究 被引量：2

15

作者 李有斌 俞朝 +1 位作者 陈叮琳 张才刚 《化工设计通讯》 CAS 2021年第1期38-39,共2页

对电子级多晶硅生产还原尾气中无定型硅产生原因进行分析,从还原炉工艺优化调整、尾气回收系统过滤除尘方面研究相对应无定型硅的去除工艺,可以有效降低无定型硅含量,进一步提高循环氢气质量,有助于提升电子级多晶硅产品质量。

关键词 电子级多晶硅 无定型硅 过滤器

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电子级多晶硅还原炉用电极改造研究 被引量：1

16

作者 陈叮琳 李有斌 +2 位作者 俞朝 张才刚 张万军 《中国石油和化工标准与质量》 2020年第21期108-109,112,共3页

本论文通过还原炉电极拉弧、电极击穿、电极冷却水反窜等问题分析,提出了新结构电极的设计方案,通过减小原电极锥度,增加电极接触面积和锥形头部的最小厚度,新结构电极在试验应用中取得了很好的效果,不仅解决了技术上的问题,同时降低了... 本论文通过还原炉电极拉弧、电极击穿、电极冷却水反窜等问题分析,提出了新结构电极的设计方案,通过减小原电极锥度,增加电极接触面积和锥形头部的最小厚度,新结构电极在试验应用中取得了很好的效果,不仅解决了技术上的问题,同时降低了安全风险和生产成本,节能降耗效果显著,从而保证了多晶硅的产量和质量。 展开更多

关键词 多晶硅 还原炉 电极

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