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p-AlGaN/GaN超晶格做p型层350nm紫外AlGaN基LED
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作者 王丹丹 丁娟 +1 位作者 韩孟序 孟锡俊 《电子科技》 2015年第3期136-138,共3页
使用p-Al Ga N/p-Ga N SPSLs作为LED的p型层,在蓝宝石衬底上生长出发光波长为350 nm的Al Ga N基紫外LED。由于Al Ga N/Ga N超晶格的极化效应,使得Mg受主的电离能降低,大幅提高了器件的光学和电学性能。在工作电流为350 m A下发光亮度达... 使用p-Al Ga N/p-Ga N SPSLs作为LED的p型层,在蓝宝石衬底上生长出发光波长为350 nm的Al Ga N基紫外LED。由于Al Ga N/Ga N超晶格的极化效应,使得Mg受主的电离能降低,大幅提高了器件的光学和电学性能。在工作电流为350 m A下发光亮度达到了22.66 m W,相应的工作电压为3.75 V,LEDs的光功率满足了实际应用需求。 展开更多
关键词 AlGaN/GaN超晶格 I-V特性
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HEMT器件质子辐射效应仿真
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作者 马毛旦 曹艳荣 +6 位作者 吕航航 王志恒 任晨 张龙涛 吕玲 郑雪峰 马晓华 《太赫兹科学与电子信息学报》 2022年第9期922-926,933,共6页
GaN基高电子迁移率晶体管(HEMT)器件具有抗高频、耐高温、大功率、抗辐射等特性,在核反应堆、宇宙探测等辐射环境中具有广阔的应用前景。借助SRIM软件仿真1.8 MeV质子辐射对不同AlGaN势垒层纵向尺寸下的常规耗尽型器件内部产生空位密度... GaN基高电子迁移率晶体管(HEMT)器件具有抗高频、耐高温、大功率、抗辐射等特性,在核反应堆、宇宙探测等辐射环境中具有广阔的应用前景。借助SRIM软件仿真1.8 MeV质子辐射对不同AlGaN势垒层纵向尺寸下的常规耗尽型器件内部产生空位密度的影响,并观察空位密度随深度的变化规律。在最优AlGaN势垒层厚度条件下,通过仿真对比5种不同栅氧层材料的MIS-HEMT器件,发现氮化铝(AlN)栅氧层材料具有相对较好的抗辐射效果。 展开更多
关键词 GAN材料 HEMT器件 MIS-HEMT器件 质子辐射仿真
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