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大功率GaAs MESFET 非线性模型的选择
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作者 杨晓平 刘佑宝 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 1998年第2期1-5,共5页
对Curtic准静态、Materka、Statz以及修正Curtic-Rodriguez四种非线性模型进行比较,通过分析各种模型DC、CV、RF特性,发现修正的Curtic-Rodriguez模型精度最好,适用的偏置范围最宽,是大功率MESFET非线性模型的理想选择。
关键词 MESFET 非线性模 砷化镓 大功率
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一种高速智能通讯接口电路的设计与实现
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作者 岳兆坚 黄士坦 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 1996年第4期27-31,共5页
本文介绍一种可与主机并行工作的高速智能通讯接口电路的硬件设计和电路智能通讯原理以及它的底层通讯程序,本电路特别适用于在控制环境复杂、速度要求很高的实时系统中进行数据通讯和数据采集。
关键词 接口电路 设计 智能通讯电路
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结构化风格在逻辑模拟中的应用
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作者 方晨 沈绪榜 于敦山 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 1996年第6期19-22,共4页
本文论述了结构化设计思想在逻辑模拟中的应用,并用结构化设计思想对模拟对象进行层次划分,并用实际模拟过程作进一步论证。在本文的结尾做了理论性的总结。
关键词 逻辑模拟 结构化 层次划分 集成电路 设计
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薄膜SOI RESURF结构击穿电压分析 被引量:3
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作者 李文宏 罗晋生 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第2期161-168,共8页
提出了基于二维Poisson 方程的薄膜SOI降低表面电场(RESURF结构解析物理模型.并在该模型基础上,给出了一种分析薄膜SOIRESURF结构击穿电压的方法.利用这一方法计算了漂移区长度较长的薄膜SOIRESU... 提出了基于二维Poisson 方程的薄膜SOI降低表面电场(RESURF结构解析物理模型.并在该模型基础上,给出了一种分析薄膜SOIRESURF结构击穿电压的方法.利用这一方法计算了漂移区长度较长的薄膜SOIRESURF结构击穿电压与漂移区掺杂浓度的关系,并定量分析了场SiO2 界面电荷密度对击穿电压和漂移区临界掺杂浓度的影响.首次提出了临界场SiO2界面电荷密度的概念,并研究了其与漂移区掺杂浓度的关系.而且计算结果与MEDICI模拟结果符合得很好. 展开更多
关键词 SOI RESURF结构 击穿电压 薄膜
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栅结漏电流对GaAs MMIC中平面肖特基二极管C-V特性的影响
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作者 田彤 罗晋生 林金庭 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 1998年第2期103-106,共4页
构造了考虑栅结漏电流影响的平面肖特基二极管电容计算模型,并用此模型对同一结构不同漏电流的肖特基二极管作了计算分析。计算结果显示,所构造模型与实验结果符合得很好,同时揭示出栅结漏电流对C—V特性确有影响。这种影响表现为... 构造了考虑栅结漏电流影响的平面肖特基二极管电容计算模型,并用此模型对同一结构不同漏电流的肖特基二极管作了计算分析。计算结果显示,所构造模型与实验结果符合得很好,同时揭示出栅结漏电流对C—V特性确有影响。这种影响表现为,在一定的栅压范围内,随着栅结漏电流的增大,C—V曲线明显上抬。文中还与其它未考虑栅结漏电流影响的模型作了对比。 展开更多
关键词 砷化镓 微波集成电路 肖特基二极管 MMIC
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TFSOIRESURF器件电势和电场分布的解析研究
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作者 李文宏 罗晋生 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 1999年第6期432-436,共5页
在物理模型的基础上,对TFSOIRESURF器件的电势和电场分布进行了解析分析,系统研究了漂移区掺杂浓度、漂移区长度、埋层SiO2 厚度和SOI层厚度等结构参数同电势和电场分布的关系,并首次定量分析了在工艺加工过程中必然引入的场SiO2 界面... 在物理模型的基础上,对TFSOIRESURF器件的电势和电场分布进行了解析分析,系统研究了漂移区掺杂浓度、漂移区长度、埋层SiO2 厚度和SOI层厚度等结构参数同电势和电场分布的关系,并首次定量分析了在工艺加工过程中必然引入的场SiO2 界面电荷密度的影响。 展开更多
关键词 SOI RESURF器件 解析模型 电势 电场
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