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酸性电解水理化性质及其脱色能力研究
1
作者 李邦玉 陈梅 +2 位作者 何莎莎 苏盈盈 王润宇 《山西化工》 CAS 2024年第7期11-13,23,共4页
初步比较了4种强电解质酸性电解水理化数据,考察了NaCI酸性电解水理化参数受温度、时间和浓度的影响。实验分析了浓度为0.43 mol/L的NaCI酸性电解水脱色性能。结果表明,不同电解质的酸性电解水理化参数与其表观解离度有正相关性。随电... 初步比较了4种强电解质酸性电解水理化数据,考察了NaCI酸性电解水理化参数受温度、时间和浓度的影响。实验分析了浓度为0.43 mol/L的NaCI酸性电解水脱色性能。结果表明,不同电解质的酸性电解水理化参数与其表观解离度有正相关性。随电解质浓度、温度等变化,NaCI酸性电解水pH值降低、氧化电位值(ORP)、电导率(σ)和余氯含量(ACC)相应发生变化。酸性电解水与染料溶液体积比为1:1时,对红色、黄色、蓝色、印花蓝、藏青、黑色染料,1 min脱色率均高达90%以上。 展开更多
关键词 酸性电解水 理化性能 氧化性 脱色
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新型喹啉胺席夫碱的合成及其抗菌活性 被引量：3
2
作者 李邦玉 俞莉 +4 位作者 张采 魏入铎 仇文军 沈阳 张勇 《合成化学》 CAS CSCD 北大核心 2014年第2期218-221,共4页
对甲苯磺酸为催化剂,乙酰丙酮和8-氨基喹啉在甲苯中回流分水反应4 h合成了一个新型的喹啉胺席夫碱———乙酰丙酮缩8-氨基喹啉(1),其结构经1H NMR,IR,元素分析和X-射线单晶衍射表征。1属三斜晶系,P1空间群,晶胞参数a=7.996(3),b=8.069... 对甲苯磺酸为催化剂,乙酰丙酮和8-氨基喹啉在甲苯中回流分水反应4 h合成了一个新型的喹啉胺席夫碱———乙酰丙酮缩8-氨基喹啉(1),其结构经1H NMR,IR,元素分析和X-射线单晶衍射表征。1属三斜晶系,P1空间群,晶胞参数a=7.996(3),b=8.069(2),c=10.284(4),α=99.943(6)°,β=111.581(8)°,γ=93.668(7)°,V=601.9(4)3,Z=2,Dc=1.298 g·cm-3,μ=0.086 mm-1,F(000)=250,R1=0.060 2,wR2=0.141 7。体外抗菌实验结果表明,1对大肠埃希氏杆菌具有明显抗菌性能。 展开更多
关键词 乙酰丙酮 8-氨基喹啉 席夫碱 合成 晶体结构 抗菌活性
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席夫碱稀土配合物(3,5-t-Bu2-2-OC6H2CH=N-8-C9H6N)3Ln(Ln=Eu,Yb)的合成及晶体结构 被引量：3
3
作者 李邦玉 姚英明 +2 位作者 王耀荣 张勇 沈琪 《有机化学》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2010年第11期1711-1715,共5页
以席夫碱钠盐[NaL(THF)]2(L=3,5-t-Bu2-2-OC6H2CH=N-8-C9H6N)(1)为前体,与无水LnCl3(Ln=Eu,Yb)按物质的量比3∶2在四氢呋喃体系中室温反应24 h,高产率地得到均配型席夫碱稀土配合物LnL3[Ln=Eu(2),Yb(3)].两个配合物都通过了元素分析、... 以席夫碱钠盐[NaL(THF)]2(L=3,5-t-Bu2-2-OC6H2CH=N-8-C9H6N)(1)为前体,与无水LnCl3(Ln=Eu,Yb)按物质的量比3∶2在四氢呋喃体系中室温反应24 h,高产率地得到均配型席夫碱稀土配合物LnL3[Ln=Eu(2),Yb(3)].两个配合物都通过了元素分析、红外光谱及单晶X射线衍射表征,其中配合物2属于三斜晶系,P 1空间群,a=1.28670(14)nm,b=1.32775(14)nm,c=2.3254(2)nm,α=93.435(2)°,β=96.487(2)°,γ=112.692(2)°.配合物3属于单斜晶系,P21/c空间群,a=1.72004(9)nm,b=1.81911(9)nm,c=2.85093(15)nm,β=106.376(1)°. 展开更多
关键词 席夫碱 铕 镱 X射线衍射
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水杨醛缩2-茚(芴)基乙胺席夫碱的合成及其晶体结构 被引量：2
4
作者 李邦玉 姚英明 +3 位作者 王耀荣 张勇 沈琪 魏入铎 《有机化学》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2011年第4期528-532,共5页
茚基(芴基)锂与2-溴乙胺氢溴酸盐在乙醚中按2:1物质的量比反应,分别得到2-茚基(芴基)乙胺氢溴酸盐(1)和3,1和3再与水杨醛缩合,分别得到水杨醛缩2-茚基(芴基)乙胺席夫碱2和4.通过~1H NMR,IR,MS和元素分析等手段对产物进行了表征,X射线分... 茚基(芴基)锂与2-溴乙胺氢溴酸盐在乙醚中按2:1物质的量比反应,分别得到2-茚基(芴基)乙胺氢溴酸盐(1)和3,1和3再与水杨醛缩合,分别得到水杨醛缩2-茚基(芴基)乙胺席夫碱2和4.通过~1H NMR,IR,MS和元素分析等手段对产物进行了表征,X射线分析确定了2,4的晶体结构.其中化合物2属于单斜晶系,P2_1/c空间群,a=0.9771(2)nm,b=1.9561(4)nm,c=1.1901(3)nm,β=99.955(5)°,M_r=375.53,V=2.2404(8)nm^3,D_c=1.113g/cm^3,Z=4,F(000)=816,μ=0.066mm^(-1),R_1=0.0769,wR_2=0.1625.化合物4属于三斜晶系,P(?)空间群,a=0.9688(3)nm,b=0.9699(3)nm,c=1.3535(5)nm,α=95.280(7)°,β=105.394(11)°,γ=90.987(12)°,M_r=425.59,V=1.2197(8)nm^3,D_c=1.159g/cm^3,Z=2,F(000)=460,μ=0.069mm^(-1),R_1=0.0589,wR_2=0.1312.. 展开更多
关键词 茚 芴 水杨醛 席夫碱 合成 晶体结构
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刺绣上霉菌提取鉴定及霉斑清洗研究
5
作者 李邦玉 徐梦婷 +1 位作者 查思雨 黄阳阳 《化纤与纺织技术》 CAS 2023年第10期1-3,共3页
为了调查发霉的苏州刺绣产品上的霉菌类型,清洗刺绣上的霉斑,文章在被霉菌污染的苏州镇湖刺绣样品上采集霉菌样品,通过培养、分离、鉴定,以及利用超声等技术对特定霉斑进行漂洗,试验了霉菌在不同浓度培养基上的生长状态。结果表明,1∶5... 为了调查发霉的苏州刺绣产品上的霉菌类型,清洗刺绣上的霉斑,文章在被霉菌污染的苏州镇湖刺绣样品上采集霉菌样品,通过培养、分离、鉴定,以及利用超声等技术对特定霉斑进行漂洗,试验了霉菌在不同浓度培养基上的生长状态。结果表明,1∶5浓度水分较多的培养基上霉菌生长快且多,确定了发霉刺绣上六种霉菌样品:曲霉属(Aspergillus)2种,2-1(MH091025.1)和7-2(KP269023.1);青霉属(Penicillium)2种,3-1(MN856268.1)和3-2(MK368538.1);真阴茎介属(Eupenidiella)1种,1-2(EU019278.1);离芳菌株(Talaromyces)1种,6-2(KU866646.1),某些霉斑经过漂白清洗被消除。 展开更多
关键词 刺绣 霉菌 霉斑清洗
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氧浓度对丝绸上霉菌生长的影响 被引量：1
6
作者 李邦玉 马思毓 李菊香 《安徽农业科学》 CAS 2024年第1期183-186,212,共5页
以黑曲霉、桔青霉为例,利用物联网系统监测培养箱温度、湿度和氧浓度,研究氧浓度对黑曲霉、桔青霉生长的影响。结果发现,在温度(28±1)℃、湿度60%~80%条件下培养7 d,黑曲霉生长所需的氧浓度最低值为0.7%。高浓度氧气能满足其有氧代... 以黑曲霉、桔青霉为例,利用物联网系统监测培养箱温度、湿度和氧浓度,研究氧浓度对黑曲霉、桔青霉生长的影响。结果发现,在温度(28±1)℃、湿度60%~80%条件下培养7 d,黑曲霉生长所需的氧浓度最低值为0.7%。高浓度氧气能满足其有氧代谢,从而使生长发育达到饱和状态;低浓度氧气不能满足其有氧代谢,从而导致生长发育不充分。当氧浓度低至0.7%时,黑曲霉停止代谢活动。氧浓度对桔青霉生长存在类似的影响。研究丝绸文物上的常见霉菌生长与氧浓度的规律以及氧浓度阈值,为丝绸文物保藏及其装置开发设计提供了理论依据。 展开更多
关键词 氧浓度 丝绸 黑曲霉 桔青霉
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