折射型微透镜列阵的光刻热熔法研究 被引量：12

1

作者 许乔 叶钧 +4 位作者 周光亚 侯西云 杨国光 包正康 余中如 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第9期1326-1331,共6页

研究了制作折射型微透镜列阵的一种新方法光刻胶热熔成形法，获得了２０×２０的折射型微透镜列阵，单元微透镜相对口径为Ｆ／２，单元透镜直径为９０μｍ，中心间隔１００μｍ，透镜的波像差小于１．３波长。本文详细阐述了光刻热... 研究了制作折射型微透镜列阵的一种新方法光刻胶热熔成形法，获得了２０×２０的折射型微透镜列阵，单元微透镜相对口径为Ｆ／２，单元透镜直径为９０μｍ，中心间隔１００μｍ，透镜的波像差小于１．３波长。本文详细阐述了光刻热熔法的基本原理及微透镜设计方法，并讨论了工艺参数对微透镜列阵质量的影响。 展开更多

关键词 微透镜列阵 微光学 光刻胶 光学元件

原文传递

二元光学元件衍射效率的逐层分析法研究 被引量：7

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作者 叶钧 许乔 +1 位作者 侯西云 杨国光 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第10期1350-1355,共6页

提出了一种有效的分析二元光学元件衍射效率的新方法逐层分析法，并对四台阶二元器件，就蚀刻深度误差和横向对准误差对器件衍射效率的影响进行了详细的分析和讨论。

关键词 衍射光学元件 二元光学 衍射效率 光学器件

原文传递

微透镜阵列的加工技术研究 被引量：6

3

作者 陈祥献 杨国光 +2 位作者 陈洪谬 侯西云 许乔 《浙江大学学报（自然科学版）》 CSCD 1998年第3期286-291,共6页

我们运用紫外光刻及热熔成形的方法，制作了２０ｍｍ×２０ｍｍ的折射型微透镜阵列，单元微透镜相对口径为Ｆ／２，单元透镜直径９０μｍ，中心间隔１００μｍ．在此基础上进行了电铸和注模复制技术的研究．本文详细讨论了光刻热熔... 我们运用紫外光刻及热熔成形的方法，制作了２０ｍｍ×２０ｍｍ的折射型微透镜阵列，单元微透镜相对口径为Ｆ／２，单元透镜直径９０μｍ，中心间隔１００μｍ．在此基础上进行了电铸和注模复制技术的研究．本文详细讨论了光刻热熔、电铸制模。 展开更多

关键词 微透镜阵列 微光学 光刻胶 电铸

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八台阶二元光学器件套刻误差的逐层分析法研究 被引量：2

4

作者 叶钧 许乔 +1 位作者 侯西云 杨国光 《浙江大学学报（自然科学版）》 CSCD 1999年第2期157-162,共6页

用逐层分析法就八台阶二元器件套刻误差对器件衍射效率的影响进行了详细的分析和讨论，给出了简便。

关键词 逐层分析法 光学器件 二元光学器件 套刻误差

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光刻热熔微透镜阵列的电铸成形复制技术研究 被引量：4

5

作者 陈祥献 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第1期56-60,共5页

我们运用光刻胶热熔成形的方法，制作了２０×２０ｍｍ的光刻胶折射型微透镜阵列，单元微透镜相对口径为Ｆ／２，单元透镜直径９０μｍ，中心间隔１００μｍ。在此基础上，采用微电铸镍的方法进行成形复制技术的研究，获得了表面图... 我们运用光刻胶热熔成形的方法，制作了２０×２０ｍｍ的光刻胶折射型微透镜阵列，单元微透镜相对口径为Ｆ／２，单元透镜直径９０μｍ，中心间隔１００μｍ。在此基础上，采用微电铸镍的方法进行成形复制技术的研究，获得了表面图形转移质量和基底性能均良好的镍模板。本文详细讨论了电铸成形技术的工艺参数控制，以及所得的电铸镍板图形质量分析。 展开更多

关键词 微透镜阵列 微光学 光刻胶 电铸

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微透镜阵列的铸塑复制技术 被引量：4

6

作者 陈祥献 《光子学报》 EI CAS CSCD 1998年第3期266-269,共4页

在光刻热熔成型以及电铸复制得到的微透镜阵列镍板基础上，采用静态铸塑技术，得到了高质量的ＰＭＭＡ微透镜阵列．本文介绍了静态铸塑的聚合反应理论基础、模具设计以及工艺过程．最后对微透镜阵列的复制精度进行分析，结果表明复制精... 在光刻热熔成型以及电铸复制得到的微透镜阵列镍板基础上，采用静态铸塑技术，得到了高质量的ＰＭＭＡ微透镜阵列．本文介绍了静态铸塑的聚合反应理论基础、模具设计以及工艺过程．最后对微透镜阵列的复制精度进行分析，结果表明复制精度优于０．５μｍ． 展开更多

关键词 微透镜阵列 微光学 铸塑 复制 微电子技术

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极坐标激光直接写入系统研究 被引量：3

7

作者 周光亚 侯西云 +1 位作者 许乔 叶钧 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第S1期327-329,337,共4页

本文对极坐标激光直接写入系统进行了初步的研究，介绍了它的原理及结构，该系统可用于二元光学掩模的制作，具有加工孔径大、线宽小的特点，特别适用于圆对称的图形。加工此类图形在制作时间、成本、元件质量等方面都优于电子束曝光机。

关键词 激光直接写入 极坐标 光刻物镜 二元光学器件 自动调焦系统 电子束曝光机 音圈电机 声光调制器 光学掩模 折衍射混合

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激光扫描定位仪的原理与设计

8

作者 周永 刘承 +2 位作者 舒晓武 赵为党 杨国光 《红外与激光工程》 EI CSCD 1997年第4期25-29,共5页

文章介绍激光扫描定位仪的原理以及其信号处理方法。该仪器利用压电陶瓷扫描器PZTA产生激光扫描线，二象限光电管接收激光，光电流引入单片机处理，再数字显示偏差值，定位长度大于3m，灵敏度优于25μm，在线性范围为±1．5mm，非... 文章介绍激光扫描定位仪的原理以及其信号处理方法。该仪器利用压电陶瓷扫描器PZTA产生激光扫描线，二象限光电管接收激光，光电流引入单片机处理，再数字显示偏差值，定位长度大于3m，灵敏度优于25μm，在线性范围为±1．5mm，非线性误差0．6％。 展开更多

关键词 扫描器 激光扫描 光电管 激光定位仪

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用于复制柱面微透镜阵列的铸塑工艺

9

作者 陈祥献 《光学仪器》 1998年第2期36-39,共4页

在光刻热熔成型以及电铸复制得到的柱面微透镜阵列镍模板基础上，采用铸塑工艺得到了高质量的PMMA柱面微透镜阵列。本文介绍了静态铸塑的模具设计、工艺过程、参数控制及测试分析。对柱面微透镜阵列的表面形貌分析表明，铸塑复制的面形... 在光刻热熔成型以及电铸复制得到的柱面微透镜阵列镍模板基础上，采用铸塑工艺得到了高质量的PMMA柱面微透镜阵列。本文介绍了静态铸塑的模具设计、工艺过程、参数控制及测试分析。对柱面微透镜阵列的表面形貌分析表明，铸塑复制的面形误差小于0.5μm． 展开更多

关键词 微透镜阵列 微光学 铸塑 复制

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用于复制柱面微透镜阵列的铸塑工艺

10

作者 陈祥献 《光学仪器》 1997年第Z1期145-145,共1页

在光刻热熔成型以及电铸复制得到的柱面微透镜阵列镍模板基础上，采用铸塑工艺得到了高质量的PMMA往面微透镜阵列。文中介绍了静态铸塑的模具设计、工艺过程、参数控制及测试分析。微透镜阵列面形误差小于0．5μum。光刻热熔技术可分为... 在光刻热熔成型以及电铸复制得到的柱面微透镜阵列镍模板基础上，采用铸塑工艺得到了高质量的PMMA往面微透镜阵列。文中介绍了静态铸塑的模具设计、工艺过程、参数控制及测试分析。微透镜阵列面形误差小于0．5μum。光刻热熔技术可分为三个步骤：①光刻胶板在掩模的遮蔽下进行紫外曝光；②对已曝光的光刻胶板进行显影和清洗；③热熔成型。 展开更多

关键词 微透阵列 微光学 铸塑

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微系统技术与微光学的发展

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作者 杨国光 《光学仪器》 1995年第4期67-67,共1页

微系统（Microsystems）是指将尺寸在微米级的功能器件与微电子器件（LSI）集成在一块基板上的系统。此系统不仅具有处理、计算功能更具有信息输入，传感以及动作执行，检测等功能。因此，微系统是发展新一代计算、先进机器人、智能化... 微系统（Microsystems）是指将尺寸在微米级的功能器件与微电子器件（LSI）集成在一块基板上的系统。此系统不仅具有处理、计算功能更具有信息输入，传感以及动作执行，检测等功能。因此，微系统是发展新一代计算、先进机器人、智能化系统的核心技术。一个以微系统技术为核心的工业──微细工业，这包括微传感器（Microsensors）、微执行器（Microactuators）、微机械（Micromachining）、微电器（Microelectronics）、激光学（Microoptics）以及微加工（Microfabrication），将成为新兴工业而取代若干传统工业，最终实现机电产品及仪器仪表工业中的集成化、微型化及经济化。微系统科学是将工业科学从宏观引入微观世界的关键，是21世纪科学与工业发展的必然趋势之一。本文从微系统的发展背景开始，阐述了做系统及激光学包括新兴的二元光学（Binaryoptics）的形成与发展，指出早于1965年美国Stanford大学首先从事微结构（Microstratures）研究，完成了脑微电极探针，70年代美国DARPA（先进防御研究计划）将LSI推向1μm的水平，1981年美国NSF（国家科学基金）将原价6万美元的不同驱动源做在一个仅需几百美元的掩模上，从而有了做系统的开端。本文接着分析了微系统的共同技术特点，指出微系统除尺寸小、功? 展开更多

关键词 微系统 微光学

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