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退火条件对Sn量子点生长和红外光学性质的影响
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作者 赵希磊 梁勇 +2 位作者 张忠锁 黄高鹏 王科范 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第14期19-21,36,共4页
首次采用固相外延生长技术在Si(001)表面直接生长Sn量子点,并应用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)和同步辐射傅里叶红外光谱(FTIR)研究了退火条件对量子点样品的表面形貌、结晶性和红外光学性质的影响。AFM结果表明,随着退火温度的... 首次采用固相外延生长技术在Si(001)表面直接生长Sn量子点,并应用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)和同步辐射傅里叶红外光谱(FTIR)研究了退火条件对量子点样品的表面形貌、结晶性和红外光学性质的影响。AFM结果表明,随着退火温度的升高和退火时间的延长,量子点的平均尺寸变大,面密度减小。XRD结果显示,外延得到的Sn量子点为四方结构的β-Sn,与衬底的相对取向为Sn(110)//Si(001)。由于β-Sn量子点的尺寸仍较大,同步辐射FTIR谱中没有观察到量子点的特征吸收峰。 展开更多
关键词 Sn量子点 固相外延 同步辐射红外光谱
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Sn量子点的研究进展
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作者 赵希磊 王科范 +1 位作者 张伟风 顾玉宗 《材料导报(纳米与新材料专辑)》 EI 2010年第1期74-76,84,共4页
Sn量子点可用于制作单电子器件、高密度存储单元、红外探测器以及发射器等,具有重要的研究意义。介绍了离子注入、分子束外延、磁控溅射和固相外延等各种制备Sn量子点的生长技术,综述了Sn量子点的光学性质、电学性质以及理论计算研究结... Sn量子点可用于制作单电子器件、高密度存储单元、红外探测器以及发射器等,具有重要的研究意义。介绍了离子注入、分子束外延、磁控溅射和固相外延等各种制备Sn量子点的生长技术,综述了Sn量子点的光学性质、电学性质以及理论计算研究结果,指出了Sn量子点研究面临的关键问题以及研究方向。 展开更多
关键词 Sn量子点 生长技术 光学性质 电学性质 理论计算
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化学腐蚀法制备ZnO量子点及其光学性质研究
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作者 赵希磊 王科范 张伟风 《材料导报(纳米与新材料专辑)》 EI CAS 2014年第2期27-29,共3页
采用化学腐蚀法调节ZnO量子点尺寸,并成功观察到量子限制效应。实验结果表明,在未添加表面活性剂样品的PL谱上未观察到发光峰的移动;而添加表面活性剂后,ZnO量子点样品的发光峰随尺寸减小而蓝移,出现了明显的量子限制效应。另外,PL谱中... 采用化学腐蚀法调节ZnO量子点尺寸,并成功观察到量子限制效应。实验结果表明,在未添加表面活性剂样品的PL谱上未观察到发光峰的移动;而添加表面活性剂后,ZnO量子点样品的发光峰随尺寸减小而蓝移,出现了明显的量子限制效应。另外,PL谱中的带隙增加量与采用有效质量模型的理论计算结果一致。 展开更多
关键词 ZnO量子点 化学腐蚀法 PL谱 TEM图像
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