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玻璃减薄蚀刻液中氟硅酸的选择性脱除方法 被引量：8
1
作者 李凯华 晏乃强 +3 位作者 徐亚玲 黄源 瞿赞 刘志彪 《环境工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2014年第3期1079-1085,共7页
光电玻璃减薄蚀刻液中氟硅酸(H2SiF6)的累积,是导致蚀刻液无法连续使用而转化为废液的主要原因。尝试对蚀刻废液中氟硅酸进行选择性脱除工艺,探索刻蚀液循环利用的有效处理方法。鉴于氟硅酸的碱金属盐具有溶解度较低的特点,研究考察了... 光电玻璃减薄蚀刻液中氟硅酸(H2SiF6)的累积,是导致蚀刻液无法连续使用而转化为废液的主要原因。尝试对蚀刻废液中氟硅酸进行选择性脱除工艺,探索刻蚀液循环利用的有效处理方法。鉴于氟硅酸的碱金属盐具有溶解度较低的特点,研究考察了利用钠盐或钾盐为沉淀剂,将废液中的H2SiF6以氟硅酸盐的形式沉淀去除,为实现蚀刻液的循环利用提供可能。结果表明,KCl相比NaCl对H2SiF6处理效果更好,但生成的K2SiF6的结晶颗粒过细,难以自然沉降,过滤效果较差;而Na2SiF6结晶沉降特性较好,且使用NaCl为沉淀剂具有价廉易得等特点,可作为氟硅酸的理想沉淀剂。H2SiF6去除率与碱金属盐H2SiF6摩尔计量比正相关,当摩尔计量比NaCl/H2SiF6=2,H2SiF6含量10%的模拟废液,其H2SiF6去除率可达到90%以上。 展开更多
关键词 玻璃减薄刻蚀液 H2SiF6 选择性脱除 沉淀剂
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阳离子絮凝剂P(AM-DAC)的合成、表征及应用 被引量：6
2
作者 徐保明 张旺喜 +2 位作者 柴周东 陈坤 刘书章 《环境科学与技术》 CAS CSCD 北大核心 2012年第8期154-157,共4页
以丙烯酰胺(AM)和丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(DAC)为单体,过硫酸钾(KPS)为引发剂,通过水溶液聚合的方法合成了阳离子絮凝剂P(AM-DAC)。探讨了单体配比、单体浓度、引发剂用量、反应时间、反应温度等因素对阳离子聚丙烯酰胺(CPAM)主要性... 以丙烯酰胺(AM)和丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(DAC)为单体,过硫酸钾(KPS)为引发剂,通过水溶液聚合的方法合成了阳离子絮凝剂P(AM-DAC)。探讨了单体配比、单体浓度、引发剂用量、反应时间、反应温度等因素对阳离子聚丙烯酰胺(CPAM)主要性能的影响。实验得出了较佳的反应条件:聚合温度为70℃,引发剂用量为0.16%,单体配比m(AM):m(DAC)=1:8,总单体浓度为20%,反应时间3 h。在上述条件下,所得阳离子聚丙烯酰胺絮凝剂的特性黏数为18.692 4 dL/g,在其加入量为0.003%的条件下处理巡司河污水,上层清液透光率达90.7%,污泥脱水率达89.2%。并对该聚合物絮凝剂的结构和热行为进行了表征。 展开更多
关键词 丙烯酰胺 丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵 阳离子聚丙烯酰胺絮凝剂 水溶液聚合 透光率
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2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-(4-吗啉基)-1-丙酮的研究进展 被引量：3
3
作者 熊伟 徐保明 +3 位作者 阮华屹 周云 陈坤 刘书章 《广东化工》 CAS 2012年第6期77-79,共3页
综述了2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-(4-吗啉基)-1-丙酮的合成工艺,对各种合成方法进行了评述。详述了α-氨基苯乙酮类光引发剂在涂料、粘合剂,印刷油墨等领域中的应用,并对该类光引发剂的发展前景进行了展望。
关键词 2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-(4-吗啉基)-1-丙酮 光引发剂 合成 应用
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浙江省发展电子化学品产业的建议
4
作者 黄源 《化工生产与技术》 CAS 2012年第6期35-38,9,共4页
介绍了电子化学品的用途、特点,叙述了我国电子化学品行业的发展现状。对浙江省发展电子化学品产业的可行性进行了分析,认为浙江省具备发展电子化学品的产业优势、技术优势、区位优势和市场优势。浙江省发展电子化学品产业,建议应调整... 介绍了电子化学品的用途、特点,叙述了我国电子化学品行业的发展现状。对浙江省发展电子化学品产业的可行性进行了分析,认为浙江省具备发展电子化学品的产业优势、技术优势、区位优势和市场优势。浙江省发展电子化学品产业,建议应调整产业定位,加大政策扶植力度;抓住发展重点,实现重点领域的突破;注重质量管理,增强自主创新和成果转换能力。 展开更多
关键词 电子化学品 信息技术 发展 建议
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浅析模糊控制 被引量：4
5
作者 谭斌 《中国石油和化工标准与质量》 2011年第4期166-166,共1页
模糊控制是一种基于规则的控制。它直接采用语言型控制规则,出发点是现场操作人员的控制经验或相关专家的知识,在设计中不需要建立被控对象的精确数学模型。对此本文总结了模糊理论的发展概况、基本原理及发展前景。
关键词 模糊控制
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