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用同步辐射光刻直接在有机玻璃板上制备高深宽比亚微米光栅
被引量：
6
1
作者
李以贵
杉山进
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第5期1451-1454,共4页
为了将平面金属膜紧密耦合到纳米光栅形成的表面等离子体共振传感器,以提高灵敏度,以及利用亚微米光栅调整共振反射波长,需要制备亚微米结构光栅。介绍了一种基于X光光刻的亚微米结构光栅的制造技术。该结构光栅是利用日本立命馆大学的...
为了将平面金属膜紧密耦合到纳米光栅形成的表面等离子体共振传感器,以提高灵敏度,以及利用亚微米光栅调整共振反射波长,需要制备亚微米结构光栅。介绍了一种基于X光光刻的亚微米结构光栅的制造技术。该结构光栅是利用日本立命馆大学的同步辐射光源进行同步辐射光光刻,在有机玻璃(PMMA)板上直接得到亚微米光栅。用此纳米加工技术获得的光栅线宽为250 nm,周期为500 nm,深宽比为8的PMMA亚微米结构光栅。还优化了曝光近接间隔、曝光剂量和显影时间等同步辐射光刻参数。
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关键词
光栅
同步辐射光刻
亚微米光栅
高深宽比
纳米制造
原文传递
应用X射线光刻的微针阵列及掩模板补偿
被引量：
5
2
作者
陈少军
李以贵
杉山进
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第2期420-425,共6页
提出了一种聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)微针的微细加工工艺,该工艺基于PCT技术,结合X射线以及光刻掩模制作三维微结构。通过移动LIGA掩模板曝光来加工微立体PMMA结构,其加工形状取决于X光光刻掩模板吸收体的形状。实验显示,最终的结构形状...
提出了一种聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)微针的微细加工工艺,该工艺基于PCT技术,结合X射线以及光刻掩模制作三维微结构。通过移动LIGA掩模板曝光来加工微立体PMMA结构,其加工形状取决于X光光刻掩模板吸收体的形状。实验显示,最终的结构形状并非完全与掩模板上吸收体的形状一致。如果不对X光光刻掩模板的吸收体形状进行补偿,即会使被加工的微结构侧面变形,从而影响微针的性能。分析了微针阵列侧面变形的原因,认为这种变形是由于显影时间与曝光量之间的非线性关系导致结构形状与曝光量分布不完全一致造成的。利用PCT方法制作的PMMA微针其长度为100～750μm,直径为30～150μm,针尖的直径最小可达100nm。通过对LIGA掩模板上的吸收体图形进行适当的补偿,使吸收体图形从中空的双直角三角形变为中空的半椭圆图形,增强了带沟道的微注射针阵列的强度。
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关键词
X射线光刻
聚甲基丙烯酸甲酯
三维微结构
掩模
吸收体
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职称材料
题名
用同步辐射光刻直接在有机玻璃板上制备高深宽比亚微米光栅
被引量：
6
1
作者
李以贵
杉山进
机构
上海交通
大学
微
纳米科学技术
研究
院薄膜与
微
细技术教育部重点实验室
微
米/纳米加工技术国家级重点实验室
日本
立
命馆
大学
微
系统
研究
中心
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第5期1451-1454,共4页
基金
国家自然科学基金(60777016)
上海市浦江人才计划(09PJ1406200)
+1 种基金
科技部国际合作项目(2009DFB10330)
航空重点实验室基金(20080857002)资助课题
文摘
为了将平面金属膜紧密耦合到纳米光栅形成的表面等离子体共振传感器,以提高灵敏度,以及利用亚微米光栅调整共振反射波长,需要制备亚微米结构光栅。介绍了一种基于X光光刻的亚微米结构光栅的制造技术。该结构光栅是利用日本立命馆大学的同步辐射光源进行同步辐射光光刻,在有机玻璃(PMMA)板上直接得到亚微米光栅。用此纳米加工技术获得的光栅线宽为250 nm,周期为500 nm,深宽比为8的PMMA亚微米结构光栅。还优化了曝光近接间隔、曝光剂量和显影时间等同步辐射光刻参数。
关键词
光栅
同步辐射光刻
亚微米光栅
高深宽比
纳米制造
Keywords
gratings
synchrony radiation lithography
sub-micron gratings
high aspect ratio
nano fabrication
分类号
TH741.6 [机械工程—光学工程]
原文传递
题名
应用X射线光刻的微针阵列及掩模板补偿
被引量：
5
2
作者
陈少军
李以贵
杉山进
机构
上海交通
大学
微
纳米科学技术
研究
院薄膜与
微
细技术教育部重点实验室
微
米/纳米加工技术国家级重点实验室
日本
立
命馆
大学
微
系统
研究
中心
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第2期420-425,共6页
基金
上海市浦江人才计划资助项目(No.09PJ1406200)
国家自然科学基金资助项目(No.60777016)
+1 种基金
科技部国际合作资助项目(No.2009DFB10330)
航空重点实验室基金资助项目(No.20080857002)
文摘
提出了一种聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)微针的微细加工工艺,该工艺基于PCT技术,结合X射线以及光刻掩模制作三维微结构。通过移动LIGA掩模板曝光来加工微立体PMMA结构,其加工形状取决于X光光刻掩模板吸收体的形状。实验显示,最终的结构形状并非完全与掩模板上吸收体的形状一致。如果不对X光光刻掩模板的吸收体形状进行补偿,即会使被加工的微结构侧面变形,从而影响微针的性能。分析了微针阵列侧面变形的原因,认为这种变形是由于显影时间与曝光量之间的非线性关系导致结构形状与曝光量分布不完全一致造成的。利用PCT方法制作的PMMA微针其长度为100～750μm,直径为30～150μm,针尖的直径最小可达100nm。通过对LIGA掩模板上的吸收体图形进行适当的补偿,使吸收体图形从中空的双直角三角形变为中空的半椭圆图形,增强了带沟道的微注射针阵列的强度。
关键词
X射线光刻
聚甲基丙烯酸甲酯
三维微结构
掩模
吸收体
Keywords
X-ray lithography
PMMA
three-dimensional microstructure
mask
absorber
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
用同步辐射光刻直接在有机玻璃板上制备高深宽比亚微米光栅
李以贵
杉山进
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
6
原文传递
2
应用X射线光刻的微针阵列及掩模板补偿
陈少军
李以贵
杉山进
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
5
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
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参考文献
引证文献
统计分析
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