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精密掩模清洗及保护膜安装工艺 被引量：1
1
作者 赵延峰 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第2期151-154,共4页
光刻工艺及其成品率对掩模洁净度要求极高。通过一系列研究分析,找到了传统掩模清洗工艺的一些缺点和局限性,借鉴和参考了传统掩模清洗工艺,克服了其局限性。基于精密掩模对加工质量的高要求,安装了保护膜并改进了精密掩模清洗工艺,通... 光刻工艺及其成品率对掩模洁净度要求极高。通过一系列研究分析,找到了传统掩模清洗工艺的一些缺点和局限性,借鉴和参考了传统掩模清洗工艺,克服了其局限性。基于精密掩模对加工质量的高要求,安装了保护膜并改进了精密掩模清洗工艺,通过试验形成了最终工艺。新清洗工艺的开发满足了0.5μm掩模加工洁净度要求。 展开更多
关键词 掩模 清洗工艺 保护膜
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