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题名罩影技法在痕迹照相中的应用
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作者
王维德
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机构
成都铁路局公安分处技术科
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出处
《刑事技术》
1984年第3期37-38,共2页
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文摘
1983年11月2日,我们在制作手铐被锯割的断面痕迹照片时,由于手铐断面痕迹线高低不均,加之金属反光性强,拍照效果不理想。为控制凸起痕迹线曝光过度和凹陷处的曝光不足,我们采用正侧光拍照,并运用罩影技法制作照片,效果很好,照片中反映的痕迹特征清晰明显,层次丰富(见照片)。
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关键词
曝光不足
曝光过度
光性
锯割
透明正片
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分类号
R814.3
[医药卫生—影像医学与核医学]
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