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厚膜混合集成电路常见工艺缺陷及其消除方法
1
作者
王劲松
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
1998年第5期27-28,共2页
除设计和材料外,工艺和操作对厚膜混合集成电路的质量和性能也有较大的影响。分析了厚膜混合集成电路生产过程中一些常见的工艺缺陷,如线条变形、起泡、阻值不稳、元件受损、锡珠等的产生原因,并提出了相应的消除方法。
关键词
厚膜
混合集成电路
工艺缺陷
下载PDF
职称材料
题名
厚膜混合集成电路常见工艺缺陷及其消除方法
1
作者
王劲松
机构
国营
第
八九
五
厂
厚
膜
分厂
出处
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
1998年第5期27-28,共2页
文摘
除设计和材料外,工艺和操作对厚膜混合集成电路的质量和性能也有较大的影响。分析了厚膜混合集成电路生产过程中一些常见的工艺缺陷,如线条变形、起泡、阻值不稳、元件受损、锡珠等的产生原因,并提出了相应的消除方法。
关键词
厚膜
混合集成电路
工艺缺陷
Keywords
thick film,HIC's,technology, defects, screen printing, laser trimming, reflow soldering
分类号
TN452.05 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
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操作
1
厚膜混合集成电路常见工艺缺陷及其消除方法
王劲松
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
1998
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