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集成电路测试数据的分析与应用研究 被引量：8
1
作者 张奇 《集成电路应用》 2019年第6期31-33,共3页
随着集成电路技术的不断进步,集成电路器件在工业科技领域的应用不断增长。为保证集成电路企业输出质量上乘、品质优良的产品,对集成电路器件测试的要求也不断提高。通过对集成电路测试中测试数据、测试向量、测试结果等测试文件处理和... 随着集成电路技术的不断进步,集成电路器件在工业科技领域的应用不断增长。为保证集成电路企业输出质量上乘、品质优良的产品,对集成电路器件测试的要求也不断提高。通过对集成电路测试中测试数据、测试向量、测试结果等测试文件处理和分析研究,对于应用到集成电路设计、制造等关键环节具有十分重要的技术意义和经济意义。 展开更多
关键词 集成电路测试 测试数据 分析与应用
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多级离心泵维修、常见故障分析及处理方法探讨 被引量：7
2
作者 李星 《内燃机与配件》 2019年第4期170-171,共2页
随着科学技术的快速发展以及社会经济的进步,现阶段我国的工业生产行业也取得了令人瞩目的成就。离心泵作为一种转速高、占地小、运行稳定度高以及操作简单的设备,在工业生产中扮演着极为重要的角色。近年来,随着离心泵技术的逐渐成熟,... 随着科学技术的快速发展以及社会经济的进步,现阶段我国的工业生产行业也取得了令人瞩目的成就。离心泵作为一种转速高、占地小、运行稳定度高以及操作简单的设备,在工业生产中扮演着极为重要的角色。近年来,随着离心泵技术的逐渐成熟,传统往复泵应用领域逐渐有被多级离心泵取代的趋势。相较于普通离心泵,多级离心泵的内部构造更为复杂,其安装和维修难度也更大。现阶段,我国部分工厂维修人员对于多级离心泵的工作原理掌握不充分,维修操作不符合规范,导致在维修时造成了较大的内部零件磨损,严重影响了离心泵的使用寿命,对企业的发展造成了较大的损失。本文针对以上这种情况,对多级离心泵维修时的常见故障做了分析介绍,并深入探究了其相应的处理方法,以期为相关工作者提供指导和帮助。 展开更多
关键词 多级离心泵 维修 常见故障 处理方法
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人工智能技术对集成电路制造的影响分析 被引量：1
3
作者 倪韵 《集成电路应用》 2024年第2期41-43,共3页
阐述AI技术的发展对集成电路制造行业的宏观影响,分析AI技术对集成电路制造各环节的影响,包括对工艺整合、良率提高、掩膜光刻、蚀刻和清洗、薄膜技术、扩散技术等各个具体生产环节的影响。AI技术的发展对集成电路制造的影响将是革命性的。
关键词 人工智能 集成电路制造 工艺整合 良率提高
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浅谈污水处理车间电气设备的维护及维修 被引量：5
4
作者 张佳林 《资源节约与环保》 2014年第5期18-19,共2页
随着经济的快速发展,人们的生活水平得到进一步的提高,污水处理也显得尤为重要。近几年,我国相继建立了大量的污水处理厂并逐步的投入运用。做好污水处理车间电气设备的维护和维修是污水厂处理污水的一项重要工作。电气设备的运行效率... 随着经济的快速发展,人们的生活水平得到进一步的提高,污水处理也显得尤为重要。近几年,我国相继建立了大量的污水处理厂并逐步的投入运用。做好污水处理车间电气设备的维护和维修是污水厂处理污水的一项重要工作。电气设备的运行效率和效果将直接影响污水处理系统的生产运行、生产产量及处理后的水质质量。因此,本文对污水处理车间电气设备的维护和维修工作进行分析探讨,做好电气设备的维护和维修工作在污水处理中具有重要意义。 展开更多
关键词 污水处理 污水厂 电气设备 维护 维修 探讨
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利用Batch Implant机台离子注入dose梯度分布调控注入均匀性的技术分析
5
作者 庞宏庄 国子明 《集成电路应用》 2024年第2期44-47,共4页
阐述发现batch implant机台所作业的wafer状况,在wafer面内存在规律性梯度差异的dose分布。基于wafer processing过程中的形变现象,通过fine tune beam line及优化diskangle条件,可以定量设计dose梯度分布情况。通过优化离子注入在wafe... 阐述发现batch implant机台所作业的wafer状况,在wafer面内存在规律性梯度差异的dose分布。基于wafer processing过程中的形变现象,通过fine tune beam line及优化diskangle条件,可以定量设计dose梯度分布情况。通过优化离子注入在wafer面内分布的dose对称性,可以有效改善离子注入均匀性。 展开更多
关键词 集成电路制造 dose梯度 Dose对称性 离子注入均匀性
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中国集成电路企业面临的机遇与挑战
6
作者 李鸿 《集成电路应用》 2024年第6期58-59,共2页
阐述我国集成电路产业发展现状、市场需求,探讨建设自主可控芯片产业链的策略。提出集成电路企业应加速构筑企业的核心竞争力,加强企业间合作,借势发展,构建完整而健康的产业生态链。
关键词 集成电路 产业链 自主可控
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闪存隧穿氧化层侧向刻蚀界面的工艺优化
7
作者 郭国超 《集成电路应用》 2024年第3期54-55,共2页
阐述在SONOS闪存存储生产工艺中,隧穿氧化层侧向刻蚀量是SONOS影响器件性能稳定性的关键因素之一。首次提出化学刻蚀液在氧化层和光阻界面的扩散距离是侧向刻蚀量的关键因素。
关键词 集成电路制造 湿法蚀刻 界面 侧向刻蚀 表面张力
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在VLSI制造中基于辅助图形的灰度光刻形成三维结构
8
作者 王雷 张雪 王辉 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第9期832-837,共6页
半导体器件从单一的二维尺度微缩转向更复杂的三维物理结构,而其传统的制造方法与以硅基逻辑或存储器为主的超大规模集成电路(VLSI)制造工艺的兼容性越来越差。灰度光刻是一种实现三维结构的可行技术方案,但因物理尺寸受限和大规模制造... 半导体器件从单一的二维尺度微缩转向更复杂的三维物理结构,而其传统的制造方法与以硅基逻辑或存储器为主的超大规模集成电路(VLSI)制造工艺的兼容性越来越差。灰度光刻是一种实现三维结构的可行技术方案,但因物理尺寸受限和大规模制造成本过高,无法被直接应用于超大规模集成电路制造。提出了一种基于辅助图形的灰度光刻技术,通过辅助图形而非传统灰度光刻调整光源或透过介质的方法来调整光强分布,并结合光刻胶筛选方法,实现了仅通过调整单一光刻工艺模块,就使现有超大规模集成电路制造工艺生产线可低成本地兼容三维结构器件制造。制作了三维结构的微电子机械系统(MEMS)运动传感器,从而验证了所提出工艺的可行性。 展开更多
关键词 超越摩尔定律 超大规模集成电路(VLSI)制造 灰度光刻 辅助图形 微电子机械系统(MEMS) 分立器件
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车规级微控制单元芯片上车使用后的失效机理及失效率分析 被引量：4
9
作者 陆涵蔚 朱黎敏 陈赞栋 《集成电路应用》 2019年第9期7-8,共2页
随着汽车智能化应用越来越广泛,芯片已经成为汽车上各功能模块不可或缺的一部分。分析表明,微控制单元芯片是车载芯片种类中一个重要的组成部分,不仅可以用于车上的核心行车电脑中,也可以用于车上娱乐系统。基于跟踪了2014年起至今多颗... 随着汽车智能化应用越来越广泛,芯片已经成为汽车上各功能模块不可或缺的一部分。分析表明,微控制单元芯片是车载芯片种类中一个重要的组成部分,不仅可以用于车上的核心行车电脑中,也可以用于车上娱乐系统。基于跟踪了2014年起至今多颗车规级微控制单元芯片的上车后的失效反馈,对其进行了失效机理归类及失效率分析。 展开更多
关键词 集成电路设计 微控制单元 车规芯片 平均失效时间.
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超级结深沟槽填充工艺及其对器件性能的影响 被引量：4
10
作者 雷海波 肖胜安 +1 位作者 刘继全 王飞 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2014年第3期268-272,共5页
基于沟槽型超级结MOSFET,研究了硅外延工艺、多晶硅填充工艺和非晶硅填充工艺对沟槽填充效果的影响,以及不同的沟槽填充效果对器件的漏电流的影响。
关键词 超级结 沟槽填充 功率器件
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一种基于IC电路设计的多次图形化方法
11
作者 王雷 张顾斌 张雪 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第8期713-718,共6页
集成电路光刻工艺中的多次图形化技术在版图拆分时着重强化图形分辨率,而非考虑电路复杂程度带来的图形复杂度和拆分难度,拆分后的版图依然包含多个电路设计单元,具有多种复杂结构,不利于光刻条件的进一步优化。以存储器为例,提出了一... 集成电路光刻工艺中的多次图形化技术在版图拆分时着重强化图形分辨率,而非考虑电路复杂程度带来的图形复杂度和拆分难度,拆分后的版图依然包含多个电路设计单元,具有多种复杂结构,不利于光刻条件的进一步优化。以存储器为例,提出了一种基于电路设计的多次图形化方法,根据电路功能单元或器件工作电压对设计版图进行识别分组。将版图进行重新布局拆分,使拆分后图形具备类似的空间周期和图形特征,克服了传统光刻工艺需要兼顾各种图形带来的缺陷。对图形结构空间周期进行全周期优化和最大化优化,降低了对光刻设备的依赖程度,为多次图形化技术提供了一种新的思路和可行性方案。 展开更多
关键词 多次图形化 版图拆分 存储器 光罩 工艺窗口 光学临近效应修正(OPC)
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贸易便利化稳步推进 中国半导体产业供应链将如何受益
12
作者 陈瑛 《中国商人》 2024年第12期224-226,共3页
近年来,由于多重因素的叠加影响,不少产业供应链都遭遇了显著挑战,半导体产业亦未能幸免。当前,半导体产业链呈现出扁平化与区域化的发展趋势,这使得我国半导体产业供应链面临颇为严峻的考验,部分国内半导体企业甚至遇到了供应链中断的... 近年来,由于多重因素的叠加影响,不少产业供应链都遭遇了显著挑战,半导体产业亦未能幸免。当前,半导体产业链呈现出扁平化与区域化的发展趋势,这使得我国半导体产业供应链面临颇为严峻的考验,部分国内半导体企业甚至遇到了供应链中断的问题。 展开更多
关键词 贸易便利化 半导体企业 半导体产业 稳步推进 供应链 叠加影响 扁平化 区域化
原文传递
激光退火技术在分立器件中应用的研究
13
作者 王雷 《功能材料与器件学报》 CAS 2024年第5期281-286,共6页
激光退火是一种激活效率高,热预算小,激活深度可控的激活工艺,对具有垂直结构的分立器件进行背面注入退火激活时,可以大大降低热预算,避免背面工艺对正面器件的影响,进一步降低超薄片在加工中因形变导致的翘曲和碎裂。本文以FS-IGBT背... 激光退火是一种激活效率高,热预算小,激活深度可控的激活工艺,对具有垂直结构的分立器件进行背面注入退火激活时,可以大大降低热预算,避免背面工艺对正面器件的影响,进一步降低超薄片在加工中因形变导致的翘曲和碎裂。本文以FS-IGBT背面注入退火为例,对激光退火工艺参数与激光退火设备硬件参数进行了研究,在传统激光退火理论模型的基础上,首次通过理论分析和实验结果验证了多光束激光退火设备的交叠时间与交叠范围、聚焦光斑尺寸、聚焦深度等重要设备参数对分立器件影响,对激光退火技术在分立器件中的应用与激光退火工艺与激光退火设备标准化及理论模型与实际相结合提供了有益参考。 展开更多
关键词 激光退火 分立器件 FS-IGBT 多光束激光退火 超薄片
原文传递
硅片预清洗处理对LPCVD多晶硅薄膜生长的影响分析
14
作者 郭国超 姜波 《集成电路应用》 2024年第4期48-49,共2页
阐述不同预清洗条件下,晶片表面化学键状态的变化对LPCVD多晶硅沉积速率和晶粒大小的影响,通过实验优化预清洗条件,实现颗粒数降低,同时保持多晶硅薄膜的晶粒大小和沉积速率的稳定。
关键词 集成电路制造 LPCVD 多晶硅薄膜 预清洗
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浅沟槽隔离填充的工艺优化分析
15
作者 郭国超 田守卫 《集成电路应用》 2024年第4期50-51,共2页
阐述浅沟槽结构中SiN厚度对填充效果的影响,发现SiN厚度对浅沟槽填充效果存在拐点,并从机理上解释出现拐点的原因,提出有效深宽比的概念,为优化HDP CVD的沉积工艺提供理论依据。
关键词 集成电路应用 浅沟槽隔离 填充 HDP CVD 深宽比
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HARP-SiCoNi工艺在量产环境下提升高台阶比浅沟道隔离填充能力的研究
16
作者 倪立华 丁亚钦 李宗旭 《集成电路应用》 2024年第4期52-54,共3页
阐述基于量产环境中“高台阶比”的“非标准V型”STI结构,使用传统的HARP和SiCoNi组合工艺研究该结构Void Free的填充方案,并测试HARP预沉积厚度和SiCoNi刻蚀量的工艺窗口,实现量产环境下“高台阶比”的“非标准V型”沟槽Void Free填充。
关键词 集成电路制造 STI填充 HARP SiCoNi VOID
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Low TCR-MIM氮化钽极板制备及其性能研究
17
作者 倪立华 丁亚钦 梁金娥 《集成电路应用》 2024年第4期58-61,共4页
阐述TCR-MIM结构具有更好的稳定性、精度和可调性,适用于高精度、高稳定性的场景。通过研究沉积次数、溅射功率和N2流量对氮化钽(TaN)极板及MIM性能的影响,获得一种Low TCR TaN作为MIM结构底部极板。当沉积2次,保持基准功率,N_(2)流量... 阐述TCR-MIM结构具有更好的稳定性、精度和可调性,适用于高精度、高稳定性的场景。通过研究沉积次数、溅射功率和N2流量对氮化钽(TaN)极板及MIM性能的影响,获得一种Low TCR TaN作为MIM结构底部极板。当沉积2次,保持基准功率,N_(2)流量约为基准流量1.2倍时,MIM结构TCR达到2ppm/℃,MIM结构可靠性测试通过,获得一种优异的低温度漂移系数TaN极板,有利于高性能MIM电容的制备。 展开更多
关键词 集成电路制造 MIM电容 TAN 温度漂移系数
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浮栅和高压栅极共掺在EEPROM中的应用研究
18
作者 刘冬华 陈云骢 钱文生 《固体电子学研究与进展》 CAS 2024年第4期363-366,共4页
为简化电可擦除可编程只读存储器(Electrically-erasable programmable read-only memory, EEPROM)的制造工艺以及减少等离子体对隧道氧化层的损害,重点分析了将浮栅多晶硅和高压器件的栅极共同掺杂对存储器件和高压器件的影响,包括不... 为简化电可擦除可编程只读存储器(Electrically-erasable programmable read-only memory, EEPROM)的制造工艺以及减少等离子体对隧道氧化层的损害,重点分析了将浮栅多晶硅和高压器件的栅极共同掺杂对存储器件和高压器件的影响,包括不同掺杂浓度下EEPROM存储单元的擦写速度、读取电流、可靠性以及高压晶体管的电学特性等相关分析,探讨优良器件特性的最优掺杂浓度设计方法,为器件性能优化以及工艺改进提供参考。 展开更多
关键词 EEPROM 浮栅 共掺
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国有制造企业加强和优化全面预算管理的对策 被引量：4
19
作者 黄英娜 《企业改革与管理》 2020年第20期108-109,共2页
进入21世纪,我国经济社会跨入了新的发展阶段,为了顺应时代的发展,国有制造企业管理模式正面临深刻转变,由原来粗放式的发展模式逐渐转变为精细化管理模式。为了在市场经济环境下更好地实现其战略目标,很多企业开始引入全面预算管理模式... 进入21世纪,我国经济社会跨入了新的发展阶段,为了顺应时代的发展,国有制造企业管理模式正面临深刻转变,由原来粗放式的发展模式逐渐转变为精细化管理模式。为了在市场经济环境下更好地实现其战略目标,很多企业开始引入全面预算管理模式,通过全面预算管理,分解战略目标,进而通过绩效考核体系,最终实现企业战略目标。本文通过对全面预算管理的论述,分析了全面预算管理的重要性,指出了现阶段国有制造企业全面预算管理中存在的问题,并针对性地提出了解决方案和措施。 展开更多
关键词 全面预算管理 国有制造企业 问题 对策
原文传递
基于NCrawler的网络爬虫设计及其应用探讨 被引量：3
20
作者 杨琳 慕云逸 时铭月 《软件产业与工程》 2016年第5期31-35,共5页
网络爬虫技术经过多年的发展,传统的应用和分析相对成熟,但是随着大数据、移动互联网时代的到来,在大规模、海量异构、隐蔽信息的实时快速采集和获取方面,仍然存在诸多的困难。本文对网络爬虫的技术原理进行分析,开发了基于NCrawler的... 网络爬虫技术经过多年的发展,传统的应用和分析相对成熟,但是随着大数据、移动互联网时代的到来,在大规模、海量异构、隐蔽信息的实时快速采集和获取方面,仍然存在诸多的困难。本文对网络爬虫的技术原理进行分析,开发了基于NCrawler的网络爬虫软件并进行应用,可依据关键词灵活在网页深度、广度搜索两种搜索策略中调整权重,具有广泛的扩展能力,支持各种类型及格式资源的爬取。最后本文对网络爬虫技术的应用领域和趋势进行了分析和展望。 展开更多
关键词 网络爬虫 NCrawler 网络爬虫设计 网络爬虫应用
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