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降低超硬类金刚石薄膜应力的方法 被引量:21
1
作者 赵栋才 任妮 《真空与低温》 2006年第1期1-8,共8页
在参考他人最近十几年研究的基础上,总结了降低超硬类金刚石薄膜内应力的几种方法,包括热退火、掺杂、加脉冲偏压、沉积多层膜等。退火在降低应力的同时可保持类金刚石薄膜很高的硬度,其他各种方法在降低应力时都以降低一定的硬度为代价。
关键词 类金刚石薄膜 DLC 内应力 超硬膜
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掺硅类金刚石膜的制备与力学性能研究 被引量:15
2
作者 赵栋才 任妮 +3 位作者 马占吉 邱家稳 肖更竭 武生虎 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期1935-1940,共6页
用脉冲电弧离子镀技术,通过调整掺硅石墨靶和纯石墨靶的数量,制备了一系列不同硅含量的类金刚石薄膜样品.研究发现:当硅含量达6.7at.%时,类金刚石薄膜的应力从4.5GPa降低到3.1GPa,薄膜的硬度还保持在3600Hv,和没有掺杂的类金刚石薄膜的... 用脉冲电弧离子镀技术,通过调整掺硅石墨靶和纯石墨靶的数量,制备了一系列不同硅含量的类金刚石薄膜样品.研究发现:当硅含量达6.7at.%时,类金刚石薄膜的应力从4.5GPa降低到3.1GPa,薄膜的硬度还保持在3600Hv,和没有掺杂的类金刚石薄膜的硬度相比,基本保持不变;当硅含量小于6.7at.%时薄膜的摩擦系数相对于未掺杂的类金刚石薄膜也保持不变,为0.15.当薄膜中硅含量继续增加时,薄膜中C—Si键的含量增多,导致薄膜硬度和应力都有较大幅度地减小、摩擦系数增大、磨损性能也变差了. 展开更多
关键词 类金刚石膜 掺硅 应力 硬度 制备 力学性能
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电子束蒸发制备二氧化钛薄膜应力测量 被引量:10
3
作者 陈焘 罗崇泰 +1 位作者 王多书 金扬利 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期168-171,共4页
在圆形硅基底上采用电子束加热蒸发制备了二氧化钛薄膜。薄膜应力测试结果表明,二氧化钛薄膜的内应力分布是不均匀的;二氧化钛薄膜的内应力集中主要出现在薄膜的边缘区域,有正应力的集中也有负应力的集中。原子力显微镜(AFM)结果显示,... 在圆形硅基底上采用电子束加热蒸发制备了二氧化钛薄膜。薄膜应力测试结果表明,二氧化钛薄膜的内应力分布是不均匀的;二氧化钛薄膜的内应力集中主要出现在薄膜的边缘区域,有正应力的集中也有负应力的集中。原子力显微镜(AFM)结果显示,不同的沉积速率和沉积温度下制备的二氧化钛薄膜具有不同的晶体结构和应力分布;沉积速率和沉积温度对二氧化钛薄膜内应力的影响是明显的,可以通过选择合适的沉积参数使内应力降低或达到最小。 展开更多
关键词 二氧化钛薄膜 电子束蒸发 内应力 热应力
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多光谱带通线性渐变滤光片的研制 被引量:10
4
作者 陈焘 罗崇泰 +1 位作者 刘宏开 周东平 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第7期72-75,共4页
线性渐变滤光片是一种特殊的滤光片,它的中心波长是随着在滤光片上位置的不同而变化的。采用离子束辅助沉积技术研制的线性渐变滤光片在0.4~1.1μm波段有10通道,平均透射率从77.5%增加到97.4%,在基板的中间任一位置只透过0.4~1.1μm... 线性渐变滤光片是一种特殊的滤光片,它的中心波长是随着在滤光片上位置的不同而变化的。采用离子束辅助沉积技术研制的线性渐变滤光片在0.4~1.1μm波段有10通道,平均透射率从77.5%增加到97.4%,在基板的中间任一位置只透过0.4~1.1μm内的一种特定波长的光。同时讨论了膜厚均匀性对线性渐变滤光片光谱性能的影响,计算表明镀制线性渐变滤光片时,在一定的配置下基片具有最佳的尺寸大小。 展开更多
关键词 线性渐变滤光片 多光谱 膜厚均匀性
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空间用宽截止长波红外带通滤光片的设计与镀制 被引量:9
5
作者 张佰森 马勉军 熊玉卿 《红外》 CAS 2009年第2期15-19,共5页
针对空间用宽截止长波红外带通滤光片具有通带内平均透射率高、抑制带截止深度深、波纹系数小、可适应复杂环境条件、具有高稳定性和高可靠性等特点,论述了宽截止长波红外带通滤光片的设计原则和方法。采用"会聚光红外光学系统&qu... 针对空间用宽截止长波红外带通滤光片具有通带内平均透射率高、抑制带截止深度深、波纹系数小、可适应复杂环境条件、具有高稳定性和高可靠性等特点,论述了宽截止长波红外带通滤光片的设计原则和方法。采用"会聚光红外光学系统"和等离子体辅助沉积工艺成功镀制了空间用宽截止长波红外带通滤光片。指出等离子体辅助沉积工艺更有利于长波红外滤光片膜层的显微结构改善和残余应力的消除。 展开更多
关键词 滤光片 长波红外 光学系统 设计 镀制
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掺铜对DLC膜力学性能影响研究 被引量:7
6
作者 赵栋才 任妮 +3 位作者 马占吉 邱家稳 肖更竭 武生虎 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2008年第5期38-42,共5页
利用纯铜靶作脉冲阴极,并改变碳阴极的数量或在铜靶前设置栅网调节DLC膜中铜含量,制备了不同铜含量的几组样品。研究发现,随着铜含量的增加,薄膜的硬度和应力下降;但当铜原子百分比含量大于6.3%时,薄膜的硬度和应力基本保持不变。摩擦... 利用纯铜靶作脉冲阴极,并改变碳阴极的数量或在铜靶前设置栅网调节DLC膜中铜含量,制备了不同铜含量的几组样品。研究发现,随着铜含量的增加,薄膜的硬度和应力下降;但当铜原子百分比含量大于6.3%时,薄膜的硬度和应力基本保持不变。摩擦因数随着铜含量的增加,一直缓慢增加,并且磨损量也慢慢增加。 展开更多
关键词 类金刚石膜 掺铜 应力 硬度
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钙钛矿型锰氧化物在热控薄膜材料方面的应用 被引量:5
7
作者 王洁冰 许旻 邱家稳 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期154-158,共5页
钙钛矿型锰氧化物材料具有热致相变特性,其半球发射率随温度不同而有较大的变化,利用这种相变特性可以制备航天器用智能型热控器件,这种器件具有重量小、不耗电、可靠性高等优点,成为未来热控涂层的重要选择.本文对钙钛矿型锰氧化物材... 钙钛矿型锰氧化物材料具有热致相变特性,其半球发射率随温度不同而有较大的变化,利用这种相变特性可以制备航天器用智能型热控器件,这种器件具有重量小、不耗电、可靠性高等优点,成为未来热控涂层的重要选择.本文对钙钛矿型锰氧化物材料的特性及机理作一个简单介绍. 展开更多
关键词 热控 热致相变 航天器
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二氧化钒薄膜微结构和光学相变特性 被引量:2
8
作者 许旻 邱家稳 +2 位作者 崔敬忠 王洁冰 何延春 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A01期211-213,共3页
二氧化钒薄膜是最有前途应用到非制冷红外微测热辐射计的材料,它的特性与制备方法、化学计量比、结构和取向等有直接关系,仔细控制工艺参数是制备应用的VO2薄膜关键。研究中采用脉冲磁控反应溅射方法,通过精确地控制功率、氧分压、... 二氧化钒薄膜是最有前途应用到非制冷红外微测热辐射计的材料,它的特性与制备方法、化学计量比、结构和取向等有直接关系,仔细控制工艺参数是制备应用的VO2薄膜关键。研究中采用脉冲磁控反应溅射方法,通过精确地控制功率、氧分压、基底温度等关键工艺参数,在石英玻璃和硅片上制备VO2薄膜。利用X射线衍射和x射线光电子谱,分析了薄膜的成分、相结构、结晶和价态情况,用原子力显微镜表征了薄膜的微观结构,在光谱仪对VO2薄膜的高低温光学特性原位测量。结果表明,得到的VO2薄膜纯度高、相结构单一、结晶度、多晶生长。在波数2000cm^-1高低温透射变化达到51%。 展开更多
关键词 薄膜 VO2 脉冲溅射 微结构 光学特性
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非平衡线圈电流对掺钨含氢类金刚石碳膜力学和摩擦学性能的影响 被引量:1
9
作者 杨拉毛草 周晖 +2 位作者 郑军 桑瑞鹏 万志华 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2010年第11期86-89,共4页
利用非平衡磁控溅射技术在单晶硅片及9Cr18不锈钢基体表面制备不同非平衡线圈电流下的掺钨含氢类金刚石碳膜。采用Raman光谱以及红外光谱分析薄膜结构,采用纳米硬度测试仪和纳米划痕仪研究薄膜的纳米硬度和膜基附着力,在球-盘摩擦磨损... 利用非平衡磁控溅射技术在单晶硅片及9Cr18不锈钢基体表面制备不同非平衡线圈电流下的掺钨含氢类金刚石碳膜。采用Raman光谱以及红外光谱分析薄膜结构,采用纳米硬度测试仪和纳米划痕仪研究薄膜的纳米硬度和膜基附着力,在球-盘摩擦磨损试验机上测试薄膜的摩擦学性能。结果表明:制备的薄膜样品具有典型的类金刚石碳膜结构,薄膜中含氢量较高;非平衡线圈电流对等离子体的限制条件影响着薄膜的力学和摩擦学性能,薄膜硬度和弹性模量随着非平衡线圈电流增加而增大,薄膜的摩擦因数在非平衡线圈电流增加到最大值8 A时达到最小值0.118,在此参数下的耐磨寿命也最长。 展开更多
关键词 非平衡磁控溅射 金刚石碳膜 力学性能 摩擦学性能
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一种聚酰亚胺超低热导红外热敏悬浮微桥 被引量:1
10
作者 余荣 陈学康 +3 位作者 杨建平 曹生珠 吴敢 王瑞 《微纳电子技术》 CAS 2007年第10期952-956,共5页
热导极为微小的热敏悬空微桥结构的制作是集成非致冷热成像探测阵列热敏感单元研究的核心。由于没有现成的将聚酰亚胺制成微桥的工艺,采用准分子激光微刻蚀技术,使用聚酰亚胺材料,并采用铂作为敏感材料来制作微桥。对所制作的铂/聚酰亚... 热导极为微小的热敏悬空微桥结构的制作是集成非致冷热成像探测阵列热敏感单元研究的核心。由于没有现成的将聚酰亚胺制成微桥的工艺,采用准分子激光微刻蚀技术,使用聚酰亚胺材料,并采用铂作为敏感材料来制作微桥。对所制作的铂/聚酰亚胺微桥原理性样件的初步测试表明,铂/聚酰亚胺微桥的热导约3.98×10-7W/K,与理论计算值接近。铂薄膜与聚酰亚胺微桥附着良好,工艺可行。在0~10V的驱动电压下可观察到铂/聚酰亚胺微桥样件明显的自热效应,其电加热响应时间小于100ms。 展开更多
关键词 非致冷红外探测 热敏悬浮微桥 激光微刻蚀 微机电系统
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薄膜应力的研究进展 被引量:32
11
作者 陈焘 罗崇泰 《真空与低温》 2006年第2期68-74,共7页
薄膜应力对薄膜性能具有重要的影响。主要介绍了薄膜应力形成机理和应力实验的研究进展,并探讨了薄膜应力研究的发展趋势。通过选择适当的工艺条件以及表面处理可以改变薄膜的应力分布,提高薄膜的性能。
关键词 薄膜 应力 光学薄膜 模型
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一维光子晶体缺陷模的滤波特性及应用研究 被引量:29
12
作者 王济洲 熊玉卿 +2 位作者 王多书 陈焘 刘宏开 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第10期2914-2919,共6页
研究了一维光子晶体缺陷膜的滤波特性,重点研究了影响其滤波特性的因素及其影响规律。并对利用一维光子晶体技术开展多通道滤光片设计的可行性进行了研究。结果表明,利用光子晶体的滤波特性,可以设计出传统光学薄膜设计方法难以实现的... 研究了一维光子晶体缺陷膜的滤波特性,重点研究了影响其滤波特性的因素及其影响规律。并对利用一维光子晶体技术开展多通道滤光片设计的可行性进行了研究。结果表明,利用光子晶体的滤波特性,可以设计出传统光学薄膜设计方法难以实现的多通道窄带滤光片,并根据实际需要,设计了一种双通道窄带滤光片。 展开更多
关键词 光学设计 一维光子晶体 滤光片 光学薄膜 缺陷模
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薄膜的应力控制技术研究现状 被引量:15
13
作者 蒋钊 陈学康 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第S1期17-21,共5页
薄膜应力普遍存在于薄膜元器件中,从而影响薄膜器件性能,限制了其良好的应用前景。所以控制薄膜的应力,消除其不良影响,是薄膜生产工艺中不可或缺的技术手段。本文对此详细阐述了几种常用的薄膜应力控制方法,并对以后研究工作的开展提... 薄膜应力普遍存在于薄膜元器件中,从而影响薄膜器件性能,限制了其良好的应用前景。所以控制薄膜的应力,消除其不良影响,是薄膜生产工艺中不可或缺的技术手段。本文对此详细阐述了几种常用的薄膜应力控制方法,并对以后研究工作的开展提出几点要求。 展开更多
关键词 薄膜 应力 控制技术
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直流磁控溅射沉积WO_3薄膜电致变色性能研究 被引量:11
14
作者 何延春 邱家稳 《真空与低温》 2007年第1期16-20,共5页
以金属钨为靶材,采用直流反应磁控溅射方法,在玻璃上制备电致变色WO3薄膜。利用X射线衍射(XRD)方法对薄膜的结构进行了分析,得出了WO3薄膜的沉积工艺。制备了WO3)ITO)Glass电致变色器件,并对其性能进行了研究。结果表明:在Li+注入前后,... 以金属钨为靶材,采用直流反应磁控溅射方法,在玻璃上制备电致变色WO3薄膜。利用X射线衍射(XRD)方法对薄膜的结构进行了分析,得出了WO3薄膜的沉积工艺。制备了WO3)ITO)Glass电致变色器件,并对其性能进行了研究。结果表明:在Li+注入前后,薄膜的透射率平均变化约50%,具有较好的可逆变色特性;Li+注入后,WO3薄膜中的一部分W6+转变为W5+,转化比例约为25%。 展开更多
关键词 直流磁控溅射 WO3 电致变色 薄膜
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离子束轰击对电子束蒸发制备二氧化钛薄膜应力的影响 被引量:11
15
作者 陈焘 罗崇泰 +1 位作者 王多书 刘宏开 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期164-167,共4页
在硅基底上用电子束蒸发方法制备了二氧化钛薄膜。通过XRD、AFM和薄膜应力测试仪研究了离子束轰击对薄膜应力的影响规律。结果表明沉积温度为323K、沉积速率为0.2nm.s-1时,二氧化钛薄膜具有较小的应力值,平均应力为48.2MPa。用能量为11... 在硅基底上用电子束蒸发方法制备了二氧化钛薄膜。通过XRD、AFM和薄膜应力测试仪研究了离子束轰击对薄膜应力的影响规律。结果表明沉积温度为323K、沉积速率为0.2nm.s-1时,二氧化钛薄膜具有较小的应力值,平均应力为48.2MPa。用能量为113eV的离子束轰击300s时,平均应力由72.9MPa的张应力变为16.7MPa的压应力。二氧化钛薄膜的微观结构变化是影响薄膜应力的主要因素。 展开更多
关键词 二氧化钛 离子束轰击 张应力 压应力 薄膜
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MgO二次电子发射功能薄膜的制备方法 被引量:10
16
作者 李晨 罗崇泰 +1 位作者 王多书 龙建飞 《真空与低温》 2009年第4期187-192,共6页
综述了具有二次电子发射功能的MgO薄膜的主要制备方法,包括电子束蒸发、磁控溅射、溶胶-凝胶、分子束外延和脉冲激光沉积法。阐述了各种方法在制备MgO薄膜方面的优点和不足,讨论了不同的制备方法对MgO薄膜结晶取向、表面形貌等性质的影... 综述了具有二次电子发射功能的MgO薄膜的主要制备方法,包括电子束蒸发、磁控溅射、溶胶-凝胶、分子束外延和脉冲激光沉积法。阐述了各种方法在制备MgO薄膜方面的优点和不足,讨论了不同的制备方法对MgO薄膜结晶取向、表面形貌等性质的影响。分析表明,利用磁控溅射法制备MgO薄膜可获得较高的二次电子发射率。 展开更多
关键词 MgO薄膜 二次电子 磁控溅射 结晶取向
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聚合物表面接枝改性方法和影响因素 被引量:8
17
作者 陈炯枢 陈学康 刘相 《科学技术与工程》 2007年第9期1997-2002,2007,共7页
阐述聚合物表面光引发接枝、辐射接枝、化学接枝等方面近年来的进展,对该项技术的发展提出了一些看法。
关键词 聚合物 表面接枝改性方法 影响因素
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离子束清洗对光学太阳反射镜(OSR)性能的影响研究 被引量:8
18
作者 赵印中 许旻 +4 位作者 李林 何延春 王洁冰 吴春华 邱家稳 《真空与低温》 2008年第3期164-166,共3页
主要通过调整离子束清洗时间、清洗气氛、清洗功率(电流)等工艺参数,并结合OSR的膜层附着力测试以及光学性能测试,研究了离子束清洗各工艺参数对OSR性能的影响。结果表明,离子束清洗可以显著提高OSR的膜层附着力。
关键词 离子束清洗 OSR 膜层附着力
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线性渐变滤光片镀制挡板设计 被引量:8
19
作者 秦洁玉 罗崇泰 马勉军 《真空与低温》 2007年第1期57-62,共6页
提出了一种膜厚修正挡板的设计方法,分析给出了使用挡板情况下基片膜厚和监控片膜厚的关系,对线性渐变滤光片镀制挡板进行了设计,给出了设计结果。用设计的挡板成功镀制了线性渐变滤光片,并给出了镀制结果。
关键词 薄膜厚度 修正挡板 设计
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掺钛对类金刚石薄膜力学性能影响研究 被引量:7
20
作者 赵栋才 肖更竭 +2 位作者 任妮 马占吉 武生虎 《真空与低温》 2008年第1期27-31,共5页
利用脉冲电弧离子镀技术制备了一系列钛含量不同的类金刚石薄膜。对样品研究发现:随着钛含量的增加(原子百分比小于5.3%),薄膜的硬度和应力都开始下降,且应力的下降幅度大于硬度下降幅度;但当钛含量继续增大时(原子百分比在5.3%和18.0%... 利用脉冲电弧离子镀技术制备了一系列钛含量不同的类金刚石薄膜。对样品研究发现:随着钛含量的增加(原子百分比小于5.3%),薄膜的硬度和应力都开始下降,且应力的下降幅度大于硬度下降幅度;但当钛含量继续增大时(原子百分比在5.3%和18.0%之间),薄膜的硬度继续保持下降,但薄膜的应力基本保持不变。摩擦系数在钛原子百分比含量小于6.3%时,保持不变,随着钛含量的继续增大,摩擦系数缓慢增加,但当钛含量到达一定值后,其磨损量增加,摩擦系数开始变的不稳定。 展开更多
关键词 类金刚石膜 掺钛 应力 硬度
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