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量子点的湿法腐蚀制备及尺寸分布研究
1
作者
刘兴权
万明芳
+3 位作者
陈效双
张波
陆卫
沈学础
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1998年第6期401-404,共4页
介绍了用可见光光刻后用湿法腐蚀制备GaAs/AlGaAs量子点的方法,并用小光点光荧光的方法检测了所制备量子点的均匀性,从理论上给出量子点的尺寸分布,并结合多量子阱阱宽的涨落,分析了荧光峰的线型和展宽机制.
关键词
量子点
湿法腐蚀
荧光光谱
砷化镓
尺寸分布
下载PDF
职称材料
题名
量子点的湿法腐蚀制备及尺寸分布研究
1
作者
刘兴权
万明芳
陈效双
张波
陆卫
沈学础
机构
中科院
上海
技术
物理所
红外
物理
国家
开放
实验室
出处
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1998年第6期401-404,共4页
基金
国家自然科学基金
文摘
介绍了用可见光光刻后用湿法腐蚀制备GaAs/AlGaAs量子点的方法,并用小光点光荧光的方法检测了所制备量子点的均匀性,从理论上给出量子点的尺寸分布,并结合多量子阱阱宽的涨落,分析了荧光峰的线型和展宽机制.
关键词
量子点
湿法腐蚀
荧光光谱
砷化镓
尺寸分布
Keywords
quantum dots, wet etching, photoluminescence spectrum
分类号
TN304.23 [电子电信—物理电子学]
O471.1 [理学—半导体物理]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
量子点的湿法腐蚀制备及尺寸分布研究
刘兴权
万明芳
陈效双
张波
陆卫
沈学础
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1998
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